[发明专利]晶圆清洗刷及晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗刷，其特征在于，包括：

滚筒；

刷头，凸设于所述滚筒表面，用于刷洗晶圆，所述刷头包括沿第一方向平行排列的多个子刷头，每个所述子刷头包括沿第二方向平行排布的多个凸起部，所述第一方向平行于所述滚筒的轴线方向，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜预设角度；

所述子刷头还包括导流部，位于沿所述第二方向平行排布且相邻的两个所述凸起部之间，在沿所述第二方向上，所述导流部的相对两端分别与两个相邻的所述凸起部连接，所述导流部和所述凸起部均与所述滚筒表面接触，且所述导流部的高度小于所述凸起部的高度，所述导流部沿所述第一方向的宽度小于所述凸起部沿所述第一方向的宽度。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，还包括：

第一调整结构，连接所述子刷头，用于旋转所述子刷头，以调整所述预设角度。

3.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，在沿所述第二方向上，相邻所述凸起部之间的第一间隔大于或者等于第一预设宽度，所述第一预设宽度为一个所述凸起部的截面宽度的1/3～1/2，所述凸起部的截面宽度为所述凸起部在所述滚筒表面的投影沿所述第二方向的宽度。

4.根据权利要求3所述的晶圆清洗刷，其特征在于，在沿所述第一方向上，相邻所述凸起部之间的第二间隔大于第二预设宽度，所述第二预设宽度为一个所述凸起部的截面宽度的1/3～1/2，所述凸起部的截面宽度为所述凸起部在所述滚筒表面的投影沿所述第二方向的宽度。

5.根据权利要求4所述的晶圆清洗刷，其特征在于，所述第一间隔小于或者等于所述第二间隔。

6.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，所述导流部呈直线条状结构。

7.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，所述凸起部与所述导流部的材料均为柔性材料。

8.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，所述预设角度为大于或者等于30度且小于或者等于60度。

9.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，同一所述子刷头中所有所述凸起部的高度均相同；

所述刷头中至少包括两种不同高度的所述凸起部。

10.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，还包括：

第二调整结构，连接所述凸起部，用于调整所述凸起部的高度。

11.根据权利要求1所述的晶圆清洗刷，其特征在于，还包括：

第三调整结构，连接所述子刷头，用于调整所述子刷头在所述滚筒表面的密度分布。

12.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：

承载结构，用于承载待清洗的晶圆；

喷射结构，用于向所述晶圆表面喷射清洗液；

如权利要求1-11中任一项所述的晶圆清洗刷，用于刷洗所述晶圆。