[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

说明书

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于在保证显示器件中功能图形的制作精度的同时，缩小功能图形的制作时间。所述显示基板的制作方法包括：在透光基底上制作遮光图形；在所述遮光图形背向所述透光基底的一侧制作功能层；在所述功能层背向所述透光基底的一侧制作光刻胶过渡图形；以所述遮光图形为掩膜，在所述透光基底背向所述光刻胶过渡图形的一侧，对所述光刻胶过渡图形进行背面曝光工艺；对经过背面曝光工艺的光刻胶过渡图形进行显影工艺，形成光刻胶目标图形；以所述光刻胶目标图形为掩膜对所述功能层进行构图，形成功能图形。本发明提供的制作方法用于制作显示基板。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展，显示器件的应用领域越来越广泛。显示器件中包括多种功能图形，一般通过构图工艺形成所述功能图形，所述构图工艺包括在待形成的功能图形上形成光刻胶，并对光刻胶进行曝光工艺，在进行曝光工艺时，需要进行准确的对位，以保证后续形成的功能图形的尺寸和位置精确，保证显示器件的显示性能。

而对位越精确需要的对位时间越长，而且即使对位精确，有些时候也无法保证所形成的功能图形的位置和尺寸的准确性。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于在保证显示器件中功能图形的制作精度的同时，缩小功能图形的制作时间。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

本发明的第一方面提供一种显示基板的制作方法，包括：

在透光基底上制作遮光图形；

在所述遮光图形背向所述透光基底的一侧制作功能层；

在所述功能层背向所述透光基底的一侧制作光刻胶过渡图形；

以所述遮光图形为掩膜，在所述透光基底背向所述光刻胶过渡图形的一侧，对所述光刻胶过渡图形进行背面曝光工艺；

对经过背面曝光工艺的光刻胶过渡图形进行显影工艺，形成光刻胶目标图形；

以所述光刻胶目标图形为掩膜对所述功能层进行构图，形成功能图形。

可选的，在所述功能层背向所述透光基底的一侧制作光刻胶过渡图形的步骤具体包括：

在所述功能层背向所述透光基底的一侧制作光刻胶层；

对所述光刻胶层进行构图工艺，形成所述光刻胶过渡图形，所述光刻胶过渡图形覆盖所述遮光图形的至少部分边界。

可选的，以所述遮光图形为掩膜，在所述透光基底背向所述光刻胶过渡图形的一侧，对所述光刻胶过渡图形进行背面曝光工艺的步骤具体包括：

将形成有所述光刻胶过渡图形的显示基板放置在透明的承载台上；

在所述承载台背向所述过渡图形的一侧，对显示基板进行全面曝光，实现以所述遮光图形为掩膜，对所述光刻胶过渡图形进行背面曝光工艺。

可选的，以所述遮光图形为掩膜，在所述透光基底背向所述光刻胶过渡图形的一侧，对所述光刻胶过渡图形进行背面曝光工艺的步骤具体包括：

所述显示基板在传送机之间移动的过程中，实现以所述遮光图形为掩膜，对所述过渡图形进行背面曝光工艺。

可选的，在所述透光基底上制作遮光图形的步骤具体包括：

采用金属材料在所述透光基底上形成栅金属层；

对所述栅金属层进行构图工艺，形成所述遮光图形；

在所述遮光图形背向所述透光基底的一侧制作功能层的步骤具体包括：