[发明专利]光微影系统控制方法、其设备及非暂时性计算机可读取媒体在审
| 申请号: | 202110203702.X | 申请日: | 2021-02-23 |
| 公开(公告)号: | CN113391523A | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
| 发明(设计)人: | 郑定亚;张汉龙;单师涵;陈立锐;苏彦硕 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光微影 系统 控制 方法 设备 暂时性 计算机 读取 媒体 | ||
1.一种控制一极紫外光(EUV)微影系统的方法,其特征在于,该方法包含以下步骤:
利用一激光辐射照射一目标液滴;
侦测该目标液滴反射的该激光辐射;
决定侦测到的该激光辐射的一像差;
决定对应于该像差的一泽尼克多项式;以及
执行一校正动作以减少该泽尼克多项式的多个泽尼克系数中的至少一者的一偏移。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该校正动作进一步包括产生一控制信号以致动该EUV微影系统的一或多个部件以调整该激光辐射与该目标液滴之间的一互动。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该校正动作包括调整该激光辐射的一入射角。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包含以下步骤:
产生多个泽尼克多项式;以及
自所述多个泽尼克多项式选择该泽尼克多项式,所选择的该泽尼克多项式对应于该像差。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,进一步包含基于所述多个泽尼克系数的该偏移,侦测该EUV辐射的一光束轮廓的一变化。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,进一步包含:
产生对应于该光束轮廓的该变化的一控制信号;
使用该控制信号控制该EUV微影系统的一致动器;以及
使用该致动器调整该EUV微影系统的一可转向镜以改变该激光辐射的一光学路径。
7.一种用于极紫外光(EUV)微影的设备,其特征在于,包含:
一液滴产生器,用以产生多个目标液滴;
一EUV辐射源,用于产生EUV辐射,该EUV辐射源包括一激发辐射源,来自该激发辐射源的一激发辐射与所述多个目标液滴互动;以及
一最终聚焦模块,用以:
侦测该目标液滴反射的该激发辐射;
决定侦测到的该激发辐射的一像差;
产生多个泽尼克多项式;
决定对应于该像差的来自所述多个泽尼克多项式的一或多个泽尼克多项式;以及
执行一校正动作以减少该或所述多个泽尼克多项式的多个泽尼克系数中的至少一者的一偏移。
8.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,进一步包含:
一可转向镜,该可转向镜是在该激发辐射与该目标液滴互动之前该激发辐射的一光学路径中的一最后一个镜;以及
一致动器,用以控制该可转向镜,
其中该最终聚焦模块进一步使用该致动器调整该可转向镜以调整该激发辐射与该目标液滴之间的一互动。
9.一种非暂时性计算机可读取媒体,其特征在于,包含储存在一记忆体中的多个计算机可读取指令,当由一计算机的一处理器执行时,所述多个计算机可读取指令指示该计算机控制一极紫外光(EUV)微影设备的一最终聚焦模块以执行一方法,该方法包含:
侦测一目标液滴反射的一激发辐射;
决定侦测到的该激发辐射的一像差;
产生多个泽尼克多项式;
决定对应于该像差的来自所述多个泽尼克多项式的一或多个泽尼克多项式;
决定该或所述多个泽尼克多项式的多个泽尼克系数中的至少一者的一偏移;以及
基于所述多个泽尼克系数的该偏移,侦测该激发辐射的一光束轮廓的一变化。
10.根据权利要求9所述的非暂时性计算机可读取媒体,其特征在于,该方法进一步包含:
产生对应于该光束轮廓的该变化的一控制信号;
使用该控制信号控制该EUV微影系统的一致动器;以及
使用该致动器调整该EUV微影系统的一可转向镜以改变该激发辐射的一光学路径。
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