[发明专利]一种透射电镜的检验方法

权利要求书

1.一种透射电镜的检验方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一单晶硅样品；

校准所述透射电镜的第一放大倍率，所述第一放大倍率大于预设放大倍率；

形成位于所述单晶硅样品上的多个沟道孔；

在小于所述第一放大倍率的多个第二放大倍率下，通过椭圆拟合测量各个第二放大倍率下所述多个沟道孔中至少三个目标沟道孔的孔间距；

将所述多个第二放大倍率中最高第二放大倍率下的孔间距记为第一孔间距；

将所述多个第二放大倍率中除所述最高第二放大倍率以外的其他第二放大倍率下的孔间距记为第二孔间距；

根据所述第一孔间距和所述第二孔间距，计算所述第二孔间距对应的第二放大倍率的第一准确度；

通过所述第一准确度与标准阈值，对所述第一准确度对应的第二放大倍率进行检验。

2.根据权利要求1所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述通过椭圆拟合测量各个第二放大倍率下所述多个沟道孔中至少三个目标沟道孔的孔间距，包括：

采集各个第二放大倍率下的透射电镜图像；所述透射电镜图像上包括至少三个目标沟道孔；

识别所述目标沟道孔的多个边界点，获得所述多个边界点对应的多个边界坐标；根据所述多个边界坐标进行椭圆拟合，并获得所述多个第二放大倍率中的每个第二放大倍率下所述至少三个目标沟道孔中每两个目标沟道孔之间的孔间距。

3.根据权利要求1所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述根据所述第一孔间距和所述第二孔间距，计算所述第二孔间距对应的第二放大倍率的第一准确度，包括：

计算所述第二孔间距和所述第一孔间距的差值，将所述差值除以所述第一孔间距，得到所述第二孔间距对应的第二放大倍率的第一准确度。

4.根据权利要求1所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述通过所述第一准确度与标准阈值，对所述第一准确度对应的第二放大倍率进行检验，包括：

比较所述第一准确度与标准阈值，所述第一准确度小于所述标准阈值的情况下，所述第一准确度对应的第二放大倍率检验合格。

5.根据权利要求4所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述第二放大倍率检验合格的情况下，所述方法还包括：

在各个第二放大倍率下各采集多个透射电镜图像；每个透射电镜图像上包括至少三个目标沟道孔；

针对每个第二放大倍率，通过椭圆拟合得到每个透射电镜图像中至少三个目标沟道孔中每两个目标沟道孔之间的孔间距；

通过所述孔间距，对所述孔间距对应的第二放大倍率下的畸变进行检验。

6.根据权利要求5所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述通过椭圆拟合得到所述每个透射电镜图像中至少三个目标沟道孔中每两个目标沟道孔之间的孔间距，包括：

识别每个透射电镜图像上目标沟道孔的多个边界点，获得所述多个边界点对应的多个边界坐标；根据所述多个边界坐标进行椭圆拟合，并获得每个透射电镜图像上所述至少三个目标沟道孔中每两个目标沟道孔之间的孔间距。

7.根据权利要求2或5所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述至少三个目标沟道孔中每两个目标沟道孔之间的孔间距包括三个不同方向的孔间距。

8.根据权利要求7所述的透射电镜的检验方法，其特征在于，所述通过所述孔间距，对所述孔间距对应的第二放大倍率下的畸变进行检验，包括：

针对每个第二放大倍率的多个透射电镜图像，分别计算每个方向的孔间距的平均值，得到三个平均孔间距；

将所述三个平均孔间距中的最大值记为第一平均孔间距；

将所述三个平均孔间距中的最小值记为第二平均孔间距；

根据所述第一平均孔间距和所述第二平均孔间距，计算对应的第二放大倍率的第二准确度；

通过所述第二准确度与标准阈值，对所述第二准确度对应的第二放大倍率下的畸变进行检验。