[发明专利]绘制装置和绘制方法在审
申请号: | 202110200405.X | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN113363179A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 三根阳介 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;徐飞跃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 绘制 装置 方法 | ||
1.一种绘制装置,其特征在于,包括:
绘制部,其从多个释放头对沿运送方向移动的工件释放功能液,来对所述工件进行绘制;和
维护部,其具有检查部,该检查部在所述维护部沿所述运送方向移动到所述绘制部的下方的状态下进行所述多个释放头的检查。
2.如权利要求1所述的绘制装置,其特征在于:
所述检查部测量从所述多个释放头释放的所述功能液的重量。
3.如权利要求1或2所述的绘制装置,其特征在于:
所述维护部包括:
从所述多个释放头吸引所述功能液的多个吸引部;和
对被所述多个吸引部吸引了所述功能液的所述多个释放头进行擦拭的擦拭部,
所述检查部在所述运送方向上相对于所述多个吸引部设置在与所述擦拭部相反一侧。
4.如权利要求3所述的绘制装置,其特征在于:
所述绘制部包括多个承载器,所述多个承载器分别具有所述多个释放头,且沿着与所述运送方向正交的水平方向配置,
所述多个吸引部与所述多个承载器对应地设置,
所述擦拭部在与所述运送方向正交的水平方向上分别设置在所述维护部的两端,
所述检查部在与所述运送方向正交的水平方向上分别设置在所述维护部的两端。
5.如权利要求1或2所述的绘制装置,其特征在于:
包括检查膜部,在以与所述维护部的检查不同的周期执行的释放拍摄检查中,从所述多个释放头对所述检查膜部释放所述功能液,
所述维护部在所述运送方向上相对于所述绘制部设置在与所述检查膜部相反一侧。
6.一种绘制方法,其特征在于,包括:
从多个释放头对沿运送方向移动的工件释放功能液,来对所述工件进行绘制的步骤;和
沿所述运送方向移动到所述多个释放头的下方,进行所述多个释放头的检查的步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造