[发明专利]具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法在审
| 申请号: | 202110196464.4 | 申请日: | 2021-02-22 | 
| 公开(公告)号: | CN112987487A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 | 
| 发明(设计)人: | 汪悦;王飞舟;张月雨 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 | 
| 主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 | 
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭四华 | 
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 不同 图形 密度 结构 opc 修正 方法 | ||
1.一种具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一、找出版图上具有不同图形密度端的图形结构,所述图形结构具有第一密集端和孤立端,所述第一密集端具有密集型图形分布,所述孤立端具有孤立图形分布;
步骤二、对所述图形结构的图形进行改变使所述图形结构的孤立端改变为第二密集端,所述第二密集端具有密集型图形分布;
步骤三、添加切割层图形,所述切割层图形用于将所述第二密集端中位于所述孤立端之外的添加图形切除;
步骤四、分别对完成步骤二的所述图形结构和对所述切割层图形进行OPC修正。
2.如权利要求1所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:步骤一中的所述图形结构中的图形为线条图形。
3.如权利要求2所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述密集型图形分布的图形分布密度大于所述孤立图形分布的图形分布密度。
4.如权利要求3所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述图形结构中的各所述线条图形平行排列。
5.如权利要求4所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述图形结构中的各所述线条图形的长度不一致。
6.如权利要求5所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述密集型图形分布的所述图形的线宽和间距和小于5倍线宽;
所述孤立图形分布的所述图形的线宽和间距和大于等于8倍线宽。
7.如权利要求6所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述孤立端中具有邻近的所述第一密集端,所述第二密集端由所述孤立端邻近的所述第一密集端中的所述图形延伸而成。
8.如权利要求7所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:和所述孤立端邻近的所述第一密集端和所述孤立端之间的距离小于7倍线宽。
9.如权利要求7所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述孤立端位于邻近的所述第一密集端的所述图形的宽度边外部。
10.如权利要求9所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:在沿所述孤立端的图形的长度方向上,仅在所述孤立端的一侧具有邻近的所述第一密集端。
11.如权利要求10所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述第二密集端由位于所述孤立端的图形的长度方向同一侧的所述第一密集端的各所述图形延伸而成。
12.如权利要求11所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述孤立端邻近的所述第一密集端中的所述图形的延伸长度小于等于切割层设计规则允许的最大尺寸。
13.如权利要求9所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:在沿所述孤立端的图形的长度方向上,在所述孤立端的二侧都具有邻近的所述第一密集端;
在沿所述孤立端的图形的长度方向上,在所述孤立端的二侧的邻近的所述第一密集端的所述图形对齐。
14.如权利要求13所述的具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法,其特征在于:所述第二密集端由位于所述孤立端的图形的长度方向两侧的所述第一密集端的各所述图形延伸且延伸后互相对齐所述图形连接在一起。
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