[发明专利]基板处理系统及装置、切换定时制作辅助装置及方法

权利要求书

1.一种基板处理系统，具备：

基板处理装置，其基于记述有多个处理的各处理的处理条件的制程来执行对基板的处理；以及

切换定时制作辅助装置，其辅助制作针对所述基板进行的所述处理的切换定时，

其中，所述切换定时制作辅助装置具有：

获取部，所述基板处理装置基于所述制程来执行对所述基板的处理，所述获取部从在所述处理的执行期间针对所述基板处理装置内的气体中包含的包括原子和分子的粒子的每个性质测定所述气体中包含的所述粒子的量的测定器获取所述粒子的量的测定值；

选定部，其在所述粒子的性质之中按照所述粒子的量的随时间的变化量从大到小的顺序选定预先确定的数量的所述粒子的性质；

决定部，其基于选定出的所述粒子的每个性质的所述粒子的量的随时间的变化，来决定用于判定所述切换定时的运算式和切换条件；以及

输出部，其向所述基板处理装置输出所述运算式和所述切换条件，

并且，所述基板处理装置具有：

执行部，其基于所述制程来执行对所述基板的处理；

计算部，其基于由所述测定器针对所述运算式中包括的所述粒子的每个性质测定出的所述粒子的量来计算所述运算式的值；以及

指示部，在所述运算式的值满足所述切换条件的情况下，所述指示部向所述执行部指示处理条件的切换。

2.根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，

所述切换定时制作辅助装置具有：

接受部，其接受作为处理对象的膜的种类和所述处理中使用的气体的种类；以及

确定部，其参照与膜或气体的种类相对应地保存有在使用该膜或气体进行的处理中产生的粒子的种类的数据库，来确定在对所述接受部接受到的种类的所述膜进行了处理的情况下所述基板处理装置内的气体中包含的粒子的性质、以及与所述接受部接受到的种类对应的所述气体中包含的所述粒子的性质，

所述获取部针对由所述确定部确定出的所述粒子的每个性质，从所述测定器获取所述基板处理装置内的气体中包含的所述粒子的量的测定值。

3.根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，

所述基板处理装置的所述执行部执行作为对所述基板的处理的、使用了等离子体的蚀刻，

所述作为处理对象的膜为作为蚀刻处理的对象的膜，

所述处理中使用的气体为蚀刻气体。

4.根据权利要求2或3所述的基板处理系统，其特征在于，

所述粒子的性质为通过所述粒子的发光而被观测到的光的波长，

所述确定部参照数据库来确定通过在对所述接受部接受到的种类的所述膜进行了处理的情况下产生的所述粒子的发光而被观测到的光的波长、以及通过与所述接受部接受到的种类对应的所述气体中包含的所述粒子的发光而被观测到的光的波长，

所述获取部针对由所述确定部确定出的通过所述粒子的发光而被观测到的光的每个波长，从所述测定器获取通过所述粒子的发光而被观测到的发光强度的测定值，来作为所述基板处理装置内的气体中包含的所述粒子的量的测定值，

所述选定部在被测定了发光强度的波长之中按照发光强度的随时间的变化量从大到小的顺序选定预先确定的数量的所述波长，

所述决定部基于选定出的每个所述波长的发光强度的随时间的变化，来决定用于判定所述切换定时的所述运算式和所述切换条件，

所述计算部基于针对所述运算式中包括的每个所述波长测定出的发光强度来计算所述运算式的值。

5.根据权利要求4所述的基板处理系统，其特征在于，

所述接受部还接受监视数量，所述监视数量表示通过作为监视对象的所述粒子的发光而被观测到的光的波长的数量，

所述选定部在被测定了发光强度的波长之中按照发光强度的随时间的变化量从大到小的顺序选定所述接受部接受到的所述监视数量的所述波长。