[发明专利]拾取器、搬送装置以及等离子体处理系统

说明书

本发明提供一种拾取器、搬送装置以及等离子体处理系统。所述拾取器保持基板和聚焦环，所述拾取器具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接。

本申请是申请日为2017年07月13日、申请号为201710572034.1、发明名称为“聚焦环更换方法”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种拾取器、搬送装置以及等离子体处理系统。

背景技术

已知一种将基板载置于在处理室的内部设置的载置台来进行等离子体处理的等离子体处理装置。在这种等离子体处理装置中，存在由于反复进行等离子体处理而逐渐消耗这样的消耗部件(例如参照专利文献1)。

作为消耗部件，例如列举设置于载置台的上表面的基板的周围的聚焦环。聚焦环暴露于等离子体而被削减，因此需要定期进行更换。

因此，在以往定期将处理室向大气开放，操作者手动进行聚焦环的更换。

专利文献1：日本特开2006-253541号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在将处理室向大气开放的方法中，聚焦环的更换需要较长时间，在进行聚焦环的更换的期间，无法在处理室内对基板进行处理，因此生产率下降。

因此，在本发明的一个方式中，其目的在于提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明提供一种拾取器，保持基板和聚焦环，所述拾取器具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接。

本发明提供一种搬送装置，搬送基板和聚焦环，所述搬送装置具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接。

本发明提供一种等离子体处理系统，具备：工艺模块；传递模块，其与所述工艺模块连接；第一加载互锁真空模块和第二加载互锁真空模块，所述第一加载互锁真空模块和所述第二加载互锁真空模块与所述传递模块连接；搬送模块，其与所述第一加载互锁真空模块和所述第二加载互锁真空模块连接；加载端口，其与所述搬送模块连接；以及搬送装置，其搬送基板和聚焦环，具有多个突起部，所述多个突起部保持基板的外周缘部，所述多个突起部的上表面与聚焦环抵接，其中，所述搬送装置设置于所述传递模块的内部，在所述工艺模块、所述第一加载互锁真空模块及所述第二加载互锁真空模块之间搬送所述聚焦环。

本发明提供一种拾取器，所述拾取器具备多个突起部，各突起部具有与聚焦环抵接的表面，所述表面配置于比被所述拾取器保持的基板的外缘靠外侧的位置。

本发明的一个方式的聚焦环更换方法在能够对被载置于在处理室的内部设置的载置台的基板进行等离子体处理的等离子体处理装置中使用，更换以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台的聚焦环，该聚焦环更换方法的特征在于，包括以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放就利用搬送所述聚焦环的搬送装置来将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的要载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放就利用所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。

发明的效果

通过公开的聚焦环更换方法，能够提高生产率。

附图说明

图1是示出一个实施方式的等离子体处理系统的概要结构图。