[发明专利]等离子体处理系统和处理系统

说明书

本发明提供一种等离子体处理系统和处理系统。等离子体处理系统具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。

本申请是申请日为2017年07月13日、申请号为201710572034.1、发明名称为“聚焦环更换方法”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种等离子体处理系统和处理系统。

背景技术

已知一种将基板载置于在处理室的内部设置的载置台来进行等离子体处理的等离子体处理装置。在这种等离子体处理装置中，存在由于反复进行等离子体处理而逐渐消耗这样的消耗部件(例如参照专利文献1)。

作为消耗部件，例如列举设置于载置台的上表面的基板的周围的聚焦环。聚焦环暴露于等离子体而被削减，因此需要定期进行更换。

因此，在以往定期将处理室向大气开放，操作者手动进行聚焦环的更换。

专利文献1：日本特开2006-253541号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在将处理室向大气开放的方法中，聚焦环的更换需要较长时间，在进行聚焦环的更换的期间，无法在处理室内对基板进行处理，因此生产率下降。

因此，在本发明的一个方式中，其目的在于提供一种能够使生产率提高的聚焦环更换方法。

用于解决问题的方案

为了达成上述目的，本发明提供一种等离子体处理系统，具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，其中，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制，以执行以下步骤：搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。

本发明提供一种等离子体处理系统，具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，其中，所述等离子体处理装置具有：处理室；载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，所述控制装置进行控制，以执行以下步骤：清洁步骤，在所述聚焦环处于所述处理室内的状态下，对所述处理室内进行清洁处理；搬出步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；以及搬入步骤，在所述搬出步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入所述处理室内并载置于所述载置台。