[发明专利]等离子体处理系统和处理系统

权利要求书

1.一种等离子体处理系统，具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，

其中，所述等离子体处理装置具有：

处理室；

载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及

聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，

所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，

所述控制装置进行控制，以执行以下步骤：

搬出步骤，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；

清洁步骤，在所述搬出步骤之后，对所述载置台的载置所述聚焦环的表面进行清洁处理；以及

搬入步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入到所述处理室内并载置于所述载置台。

2.一种等离子体处理系统，具备等离子体处理装置、搬送装置以及控制装置，

其中，所述等离子体处理装置具有：

处理室；

载置台，其设置于所述处理室的内部，用于载置基板；以及

聚焦环，其以包围所述基板的周围的方式载置于所述载置台，

所述搬送装置构成为能够搬送所述聚焦环，

所述控制装置进行控制，以执行以下步骤：

清洁步骤，在所述聚焦环处于所述处理室内的状态下，对所述处理室内进行清洁处理；

搬出步骤，在所述清洁步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将所述聚焦环从所述处理室内搬出；以及

搬入步骤，在所述搬出步骤之后，不将所述处理室向大气开放地由所述搬送装置将聚焦环搬入所述处理室内并载置于所述载置台。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置控制为在所述搬出步骤之前进行所述等离子体处理装置的清洁。

4.根据权利要求2所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置控制为在所述搬出步骤之后进行所述等离子体处理装置的清洁。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置控制为在所述搬入步骤之后进行所述等离子体处理装置的陈化。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述搬送装置构成为能够将所述基板搬送至所述处理室。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述搬送装置构成为在保持着所述基板的外周缘部的状态下搬送所述基板，在保持着所述聚焦环的下表面的状态下搬送所述聚焦环。

8.根据权利要求6或7所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述搬送装置能够旋转，构成为在搬送所述聚焦环时以旋转半径最小的方式进行旋转。

9.根据权利要求6至8中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置控制为：在所述搬入步骤中，在由所述搬送装置保持着所述聚焦环的状态下检测所述聚焦环的位置，在对检测出的所述聚焦环的位置与基准位置之间的偏移进行校正后将所述聚焦环载置于所述载置台。

10.根据权利要求9所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置控制为基于所述聚焦环的内周缘部的位置来检测所述聚焦环的有无和位置。

11.根据权利要求1至10中的任一项所述的等离子体处理系统，其特征在于，

所述控制装置还执行消耗度判定步骤，在该消耗度判定步骤中判定是否需要进行所述聚焦环的更换，

在所述消耗度判定步骤中判定为需要进行所述聚焦环的更换的情况下，所述控制装置控制为进行所述搬出步骤。