[发明专利]一种外延基座

权利要求书

1.一种外延基座，其特征在于，包括边缘侧墙和片坑，所述边缘侧墙位于所述片坑的外围，所述片坑用于盛放硅片，所述片坑沿径向由外至内依次包括：

支撑台，用于支撑硅片；

外围区域，所述外围区域上表面不高于所述支撑台上表面；以及

中心区域，所述中心区域上表面不高于所述外围区域上表面；其中，

所述中心区域的曲率半径小于所述外围区域的曲率半径。

2.如权利要求1所述的外延基座，其特征在于，所述中心区域包括以所述外延基座的中心为圆心，以第一半径为半径的区域，所述第一半径的范围为片坑最大半径的2/5-2/3。

3.如权利要求1所述的外延基座，其特征在于，所述外围区域的曲率半径与所述中心区域的曲率半径之比大于等于4。

4.如权利要求3所述的外延基座，其特征在于，所述外围区域的曲率半径与所述中心区域的曲率半径之比大于等于6。

5.如权利要求1所述的外延基座，其特征在于，所述中心区域和所述外围区域之间还设置有连接区域，以将曲率半径不同的中心区域和外围区域光滑连接。

6.如权利要求5所述的外延基座，其特征在于，所述连接区域的形状为样条曲线。

7.如权利要求6所述的外延基座，其特征在于，所述样条曲线为圆弧。

8.如权利要求6所述的外延基座，其特征在于，所述连接区域与所述中心区域相切，和/或，所述连接区域与所述外围区域相切。