[发明专利]磁场增强组件以及磁场增强器件在审

专利信息
申请号: 202110183925.4 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN114910845A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 赵乾;池中海;孟永钢;郑卓肇;易懿;王亚魁 申请(专利权)人: 清华大学;北京清华长庚医院
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/36;G01R33/38
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 魏朋
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 磁场 增强 组件 以及 器件
【权利要求书】:

1.一种磁场增强组件,其特征在于,所述磁场增强组件包括:

第一电介质层(100),具有第一表面(101),所述第一电介质层(100)具有相对设置的第一端(103)与第二端(104);

第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),且靠近所述第二端(104)设置;

第二电极层(120),设置于所述第一表面(101),并与所述第一电极层(110)间隔设置,且靠近所述第一端(103)设置;

第四控制电路(600),所述第四控制电路(600)的一端与所述第二电极层(120)远离所述第一端(103)的一端连接,所述第四控制电路(600)的另一端与所述第一电极层(110)远离所述第二端(104)的一端连接;

所述第四控制电路(600)用于控制所述第一电极层(110)与所述第二电极层(120)在射频发射阶段断开,且在射频接收阶段连接。

2.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第四控制电路(600)包括:

第一耗尽型MOS管(231),所述第一耗尽型MOS管(231)的源极与所述第二电极层(120)连接,所述第一耗尽型MOS管(231)的栅极和漏极连接;

第二耗尽型MOS管(232),所述第二耗尽型MOS管(232)的栅极和漏极连接,并与所述第一耗尽型MOS管(231)的栅极和漏极连接,所述第二耗尽型MOS管(232)的源极与所述第一电极层(110)连接。

3.如权利要求2所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第四控制电路(600)还包括:

第三耗尽型MOS管(233),所述第三耗尽型MOS管(233)的源极与所述第一耗尽型MOS管(231)的源极连接,所述第三耗尽型MOS管(233)的栅极和漏极连接;

第四耗尽型MOS管(234),所述第四耗尽型MOS管(234)的栅极和漏极连接,并与所述第三耗尽型MOS管(233)的栅极和漏极连接,所述第四耗尽型MOS管(234)的源极与所述第二耗尽型MOS管(232)的源极连接。

4.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,沿着由所述第一端(103)至所述第二端(104)的方向,所述第二电极层(120)和所述第一电极层(110)关于所述第四控制电路(600)对称设置。

5.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一电介质层(100)具有第二表面(102),与所述第一表面(101)相对设置,所述磁场增强组件还包括:

第三电极层(130),设置于所述第二表面(102),并覆盖部分所述第二表面(102),且靠近所述第二端(104)设置;

所述第三电极层(130)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第一电极层(110)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重和,形成第二结构电容(302);

第四电极层(140),设置于所述第二表面(102),并覆盖部分所述第二表面(102),且靠近所述第一端(103)设置;

所述第四电极层(140)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重和,形成第三结构电容(303)。

6.如权利要求5所述的磁场增强组件,其特征在于,沿着所述第一端(103)至所述第二端(104)的方向上,所述第三结构电容(303)与所述第四控制电路(600)之间的所述第二电极层(120)的长度和所述第二结构电容(302)与所述第四控制电路(600)之间的所述第一电极层(110)的长度相同。

7.如权利要求5所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第三结构电容(303)与所述第四控制电路(600)之间的所述第二电极层(120)的宽度小于所述第三结构电容(303)对应的所述第二电极层(120)的宽度;

所述第二结构电容(302)与所述第四控制电路(600)之间的所述第一电极层(110)的宽度小于所述第二结构电容(302)对应的所述第一电极层(110)的宽度。

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