[发明专利]一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置及检测方法有效

专利信息
申请号: 202110178233.0 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN112986288B 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 陈东风;魏国海;孙凯;刘蕴韬;贺林峰;武梅梅;李正耀;焦学胜;郝丽杰;李玉庆;韩松柏;王洪立;王雨 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: G01N23/05 分类号: G01N23/05
代理公司: 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 代理人: 王鹏鑫
地址: 102413 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 放射性 样品 直接 中子 照相 无损 检测 装置 方法
【说明书】:

发明公开了一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置,包括:中子源、样品台、中子光路传输系统和中子探测系统。所述中子源、所述样品台、所述中子光路传输系统和所述中子探测系统沿着第一方向依次排布设置。通过在样品台和中子探测系统之间设置中子光路传输系统,并可根据检测样品的性质等来设置中子光路传输系统的长度,从而拉长了检测样品和中子探测系统之间的距离,可以极大地降低检测样品的放射性对中子成像探测系统的影响,几乎不会影响中子探测系统的检测成像。如此,本发明的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置,可以利用直接中子成像方法针对放射性样品进行中子照相无损检测。

技术领域

本发明涉及放射性材料检测技术领域,具体涉及一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置及检测方法。

背景技术

中子照相技术是一种无损检测技术。由于中子具有深穿透、可区分同位素和临近元素等优势,中子照相技术有着广泛的应用。中子照相技术可以分为直接中子成像方法和间接中子成像方法。其中,直接中子成像方法的应用更为广泛。然而,在直接中子成像方法中,中子成像探测系统距离样品通常很近,无法针对放射性样品进行中子照相无损检测。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置及检测方法,可以利用直接中子成像方法针对放射性样品进行中子照相无损检测。

为实现上述目的,本发明提供了一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置,包括:中子源,用于产生中子照相无损检测的中子束流;样品台,用于放置检测样品;中子光路传输系统,用于供中子束流传输;和中子探测系统,用于接收中子束流并记录检测成像信息。其中,所述中子源、所述样品台、所述中子光路传输系统和所述中子探测系统沿着第一方向依次排布设置。

本发明提供了一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测方法,包括:沿着第一方向依次排布设置中子源、样品台、中子光路传输系统和中子探测系统;将检测样品放置在所述样品台上,启动所述中子源产生中子束流,并控制中子束流穿透检测样品并进入所述中子光路传输系统传输;所述中子探测系统接收从所述中子光路传输系统出射的中子束流,并记录检测成像信息。

如上所述,本发明提供一种用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置及检测方法,通过在样品台和中子探测系统之间设置中子光路传输系统,并可根据检测样品的性质等来设置中子光路传输系统的长度,从而拉长了检测样品和中子探测系统之间的距离,可以极大地降低检测样品的放射性对中子成像探测系统的影响,几乎不会影响中子探测系统的检测成像。如此,本发明的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置,可以利用直接中子成像方法针对放射性样品进行中子照相无损检测。

附图说明

通过下文中参照附图对本发明所作的描述,本发明的其它目的和优点将显而易见,并可帮助对本发明有全面的理解。

图1是根据本发明的一些实施例的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置的结构示意图;

图2是根据本发明的一些实施例的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测装置的使用过程示意图;

图3是根据本发明的一些实施例的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测方法的流程示意图;

图4是根据本发明的一些实施例的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测方法的流程示意图;

图5是根据本发明的一些实施例的用于放射性样品直接中子照相无损检测的检测方法的流程示意图。

需要说明的是,附图并不一定按比例来绘制,而是仅以不影响读者理解的示意性方式示出。

附图标记说明:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院,未经中国原子能科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110178233.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top