[发明专利]一种无需补偿的精细线路板制作方法在审
申请号: | 202110177630.6 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN112996265A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 刘清;万克宝 | 申请(专利权)人: | 盐城维信电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/18 | 分类号: | H05K3/18 |
代理公司: | 南京中高专利代理有限公司 32333 | 代理人: | 沈雄 |
地址: | 224000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 无需 补偿 精细 线路板 制作方法 | ||
1.一种无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,包括:
提供一绝缘基板;
在所述绝缘基板的至少一个表面上镀镍,形成导电镍层;
在所述导电层上方压合一层干膜;
对所述干膜进行显影,形成线路图案;
对所述线路图案进行电镀铜;
去除所述干膜;
选择性蚀刻所述导电镍层。
2.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,镀镍的厚度为0.05微米~5微米。
3.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,电镀铜的线距/线宽范围为7微米/7微米~30微米/30微米。
4.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,通过化学镀镍或真空溅镀镍在所述绝缘基板的至少一个表面上镀镍。
5.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,在所述绝缘基板的至少一个表面上镀镍,形成导电镍层之后,还包括:
对镀镍后的所述绝缘基板进行镭射钻孔以及孔内金属化;
通过黑影、黑碳、石墨烯和化学镀铜的制程在孔壁上沉积导电铜层。
6.根据权利要求5所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,所述导电铜层的厚度为5-15微米。
7.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,在所述导电层上方压合一层干膜包括:
通过热辊压合的方式在所述绝缘基板上压合上耐电镀药水的干膜。
8.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,对所述干膜进行显影,形成线路图案包括:
通过紫外光照射使所述干膜发生聚合交联;
用去膜药水使所述线路图案部分露出。
9.根据权利要求1所述的无需补偿的精细线路板制作方法,其特征在于,所述绝缘基板为聚酰亚胺。
10.一种精细线路板,其特征在于,所述精细线路板使用权利要求1-9任一所述的方法制成。
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