[发明专利]深度信息确定方法及装置有效
申请号: | 202110173172.9 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN112526546B | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 曾园;吴勇辉 | 申请(专利权)人: | 深圳市汇顶科技股份有限公司 |
主分类号: | G01S17/894 | 分类号: | G01S17/894;G01S17/32;G01S7/481;G01S7/48 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 朱颖;臧建明 |
地址: | 518045 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 深度 信息 确定 方法 装置 | ||
1.一种深度信息确定方法,其特征在于,包括:
控制光源交替发射第一调制频率的第一发射光以及第二调制频率的第二发射光到对象,其中,所述第一调制频率和所述第二调制频率均大于50MHz,且所述第一调制频率与所述第二调制频率不同;
检测所述对象产生的第一反射光以及第二反射光,其中,所述第一反射光为所述第一发射光对应的反射光,所述第二反射光为所述第二发射光对应的反射光;
根据检测到的前后相邻的第二反射光和第一反射光,并基于所述第一调制频率计算所述对象的第一深度信息,所述第一深度信息与所述第一反射光的真实周期数相关;
根据检测到的前后相邻的第一反射光和第二反射光,并基于所述第二调制频率计算所述对象的第二深度信息,所述第二深度信息与所述第二反射光的真实周期数相关;
其中,每相邻的两帧反射光确定一个深度信息,所述第一深度信息与所述第二深度信息的信息数量总和,与所述第一发射光以及所述第二发射光的发射次数总和相同,或者,所述信息数量总和比所述发射次数总和少一;
其中,通过以下公式确定所述第一反射光或第二反射光的真实周期数:
其中,n1表示所述第一反射光的真实周期数,n2表示所述第二反射光的真实周期数,表示第一相位,所述第一相位反映所述第一发射光与所述检测到的第一反射光之间的相位差,表示第二相位,所述第二相位反映所述第二发射光与所述检测到的第二反射光之间的相位差,f1表示所述第一调制频率,f2表示所述第二调制频率。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据检测到的前后相邻的第二反射光和第一反射光,并基于所述第一调制频率计算所述对象的第一深度信息包括:
根据检测到的所述第一反射光计算第一相位;
根据检测到的所述第二反射光计算第二相位;
根据所述第一相位和所述第二相位,并基于所述第一调制频率确定所述对象的第一深度信息,其中所述第二反射光先于所述第一反射光被检测到。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一相位和所述第二相位,并基于所述第一调制频率确定所述对象的第一深度信息,包括:
根据所述第一相位以及所述第二相位,确定所述第一反射光的真实周期数,并依据所述真实周期数、所述第一相位、所述第一调制频率和光速计算所述第一深度信息。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据检测到的前后相邻的第一反射光和第二反射光,并基于所述第二调制频率计算所述对象的第二深度信息包括:
根据检测到的所述第一反射光计算第一相位,其中,所述第一相位反映所述第一发射光与所述检测到的第一反射光之间的相位差;
根据检测到的所述第二反射光计算第二相位,其中,所述第二相位反映所述第二发射光与所述检测到的第二反射光之间的相位差;
根据所述第一相位和所述第二相位,并基于所述第二调制频率确定所述对象的第二深度信息,其中所述第一反射光先于所述第二反射光被检测到。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一相位和所述第二相位,并基于所述第二调制频率确定所述对象的第二深度信息,包括:
根据所述第一相位以及所述第二相位,确定所述第二反射光的真实周期数,并依据所述真实周期数、所述第二相位、所述第二调制频率和光速计算所述第二深度信息。
6.根据权利要求2-5任意一项所述的方法,其特征在于,所述根据检测到的所述第一反射光计算第一相位包括:
获取所述第一反射光的光强度检测结果,根据所述第一反射光的光强度检测结果确定所述第一反射光的第一相位;
所述根据检测到的所述第二反射光计算第二相位包括:
获取所述第二反射光的光强度检测结果,根据所述第二反射光的光强度检测结果确定所述第二反射光的第二相位。
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