[发明专利]蒸发镀膜设备及基材的镀膜方法

权利要求书

1.一种蒸发镀膜设备，其特征在于，所述蒸发镀膜设备包括沿基材的输送路径依次设置的用于对基材的同一表面进行镀膜的至少两组镀膜组件；

每组所述镀膜组件包括主冷辊和蒸镀装置，所述蒸镀装置被配置成对基材进行镀膜，所述主冷辊被配置成对所述基材进行冷却。

2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，每组所述镀膜组件的所述蒸镀装置设置于所述主冷辊的下方，所述蒸镀装置被配置成对包覆所述主冷辊的所述基材进行镀膜。

3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，主冷辊的辊面上设置有陶瓷涂层，且所述主冷辊被配置成接受偏压电源；

可选地，所述主冷辊的直径为200～2400mm。

4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述主冷辊内部设置用于通入冷却液的冷却通道，所述主冷辊的辊轴用于连接负电极，所述冷却通道的内壁用于连接正电极。

5.根据权利要求3所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述镀膜组件还包括碳纤维辊，所述碳纤维辊设置于所述主冷辊的后端，且用于改变基材的输送方向；

可选地，所述碳纤维辊的直径为40～250mm。

6.根据权利要求1所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，每组所述镀膜组件的所述蒸镀装置设置于所述主冷辊的前端，所述蒸镀装置被配置成对所述基材进行镀膜，所述主冷辊被配置成冷却镀膜后的所述基材。

7.根据权利要求1～6任一项所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，沿基材的输送路径，至少两组所述镀膜组件的后端设置有用于检测镀层厚度的厚度检测装置。

8.根据权利要求1～6任一项所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述镀膜组件包括三组～四组，沿基材的输送路径，每组所述镀膜组件的主冷辊的后端设置水冷辊。

9.一种基材的镀膜方法，其特征在于，适用于权利要求1～8任一项所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述镀膜方法包括如下步骤：

沿基材的输送路径，将基材设置于至少两组所述镀膜组件上；

基材先经过第一组的所述蒸镀装置，以对所述基材的第一表面进行镀膜，第一组的所述主冷辊对镀膜基材进行冷却；然后经过第二组的所述蒸镀装置，以对所述基材的第一表面继续进行镀膜，第二组的所述主冷辊对镀膜基材进行冷却。

10.根据权利要求9所述的镀膜方法，其特征在于，所述蒸发镀膜设备的真空度为1.0×10^-1～1.0×10^-2Pa；所述基材的走膜速度为20～600m/min；每一所述蒸镀装置的送丝量为100～1500mm/min；

可选地，所述蒸发镀膜设备的真空度为(2.0～2.4)×10^-2Pa；所述基材的走膜速度为24～78m/min；每一所述蒸镀装置的送丝量为700～1100mm/min。