[发明专利]电铸制品的制造方法和电铸制品有效

专利信息
申请号: 202110166411.8 申请日: 2021-02-04
公开(公告)号: CN113322494B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 佐佐木阳介 申请(专利权)人: 西铁城时计株式会社
主分类号: C25D1/00 分类号: C25D1/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 郭放;许伟群
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电铸 制品 制造 方法
【说明书】:

在多层的电铸制品的制造方法中,提高层的界面中的电铸部分的形状的精度。一种通过将由金属镀敷形成电铸部分(40、80)在厚度方向上层叠而将两层的电铸部分(40、80)一体地形成的电铸制品的制造方法,其中,在先行形成的第一层的电铸部分(40)的、第二层的电铸部分(80)要层叠的一侧的表面(41)形成耐腐蚀性好的金属膜(50);接着,在金属膜(50)之上形成电铸部分(80)用的抗蚀剂层(60);接着,利用曝光和显影来去除抗蚀剂层(60)中的与所述电铸部分(80)相对应的部分(62);在抗蚀剂层(60)的被去除的未曝光区域(62)形成电铸部分(80)。

技术领域

本发明涉及电铸制品的制造方法和电铸制品。

背景技术

通过电铸来制造例如钟表的部件等的具有微小的形状的结构物。作为电铸制品,提出了根据厚度方向的位置而轮廓形状不同的、由多层(多段)的电铸部分形成的制品(例如参照专利文献1、2)。

根据专利文献1记载的技术,在第一层(第一段)的电铸部分(由电铸(镀敷)工序形成的部分)的表面(与第二层(第二段)的电铸部分相接触的面)设置隔离(barrier)层,在隔离层和第一层的抗蚀剂层(resist)的整个表面形成第二层的抗蚀剂层,对第二层的抗蚀剂层进行曝光和显影之后,去除第一层的电铸部分的表面的隔离层,从而形成与第一层的电铸部分的表面相接触的第二层的电铸部分。

根据专利文献2记载的技术,在第一层的电铸部分(由电铸(镀敷)工序形成的部分)的整个表面形成第二层的抗蚀剂层,对第二层的抗蚀剂层进行曝光和显影之后,形成与第一层的电铸部分的表面相接触的第二层的电铸部分。

(现有技术文献)

(专利文献)

专利文献1:日本特许第6284144号公报

专利文献2:欧洲专利申请公开第2405301号说明书(EP-A1-002405301)

发明内容

(发明所要解决的问题)

在专利文献1所记载的技术中,在去除第一层的电铸部分的表面的隔离层时,不仅会去除在第一层的电铸部分的表面所形成的隔离层中的与第二层的电铸部分相接触的范围的隔离层,还会去除与第二层的抗蚀剂层相接触的范围的隔离层。

如此,会在第一层的电铸部分和第二层的抗蚀剂层之间形成与被去除的隔离层相对应的空隙。其结果,产生如下问题:第二层的电铸部分上也会形成在该空隙中,本应由第二层的抗蚀剂层画出轮廓的第二层的电铸部分会形成至比第二层的抗蚀剂层的还靠外侧的空隙,导致电铸部分的形状的尺寸精度下降。

此外,在专利文献2所记载的技术中,在所形成的第一层的电铸部分的表面会在电铸部分与空气中的氧气的反应的作用下形成氧化膜。氧化膜会使第二层的电铸部分和第一层的电铸部分的结合程度下降。因此,在对第二层的抗蚀剂层的曝光和显影之后,有必要利用强酸等来去除形成在第一层的电铸部分的表面的氧化膜。

然而,在去除该氧化膜时,不仅会去除形成在第一层的电铸部分的表面的氧化膜中的与第二层的电铸部分相接触的范围的氧化膜,还会去除与第二层的抗蚀剂层相接触的范围的氧化膜。

如此,与专利文献1的情况同样地,会在第一层的电铸部分和第二层的抗蚀剂层之间形成与被去除的氧化膜相对应的空隙。其结果,产生如下问题:第二层的电铸部分也会形成在该空隙中,本应由第二层的抗蚀剂层画出轮廓的第二层的电铸部分形成至比第二层的抗蚀剂层还靠外侧的空隙,导致电铸部分的形状的尺寸精度下降。

鉴于上述情况,本发明的目的在于,提供一种可防止在层的界面处的电铸部分的腐蚀并提高形状的精度,同时可获得层之间的紧贴力的电铸制品的制造方法和电铸制品。

(解决问题所采用的措施)

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