[发明专利]一种超轻高阻隔核生化防护材料及其加工方法在审

专利信息
申请号: 202110158953.0 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN112959769A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 吴嵩彬;杨西红;尉隽;段瑞荣 申请(专利权)人: 咸阳际华新三零印染有限公司
主分类号: B32B27/32 分类号: B32B27/32;B32B27/34;B32B27/08;B32B7/12;B32B27/02;B32B27/12;B32B27/30;B32B37/10;C08J5/18;C08L27/16;C08K7/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710000*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 超轻高 阻隔 生化 防护 材料 及其 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种超轻高阻隔核生化防护材料,其特征在于,包括第一阻隔层(1),所述第一阻隔层(1)的表面上粘粘有承力层(2),所述承力层(2)的表面上粘粘有第二阻隔层(3),所述第二阻隔层(3)的表面上粘粘有功能层(4)。

2.根据权利要求1所述的一种超轻高阻隔核生化防护材料,其特征在于,所述第一阻隔层(1)和第二阻隔层(3)的结构相同,所述第一阻隔层(1)包括高阻隔乙烯—乙烯醇共聚物(11),所述高阻隔乙烯—乙烯醇共聚物夹在两层尼龙膜(12)之间,两个所述尼龙膜的另一面均贴合有乙烯聚合物(13)。

3.根据权利要求1所述的一种超轻高阻隔核生化防护材料,其特征在于,所述承力层(2)以高密度聚乙烯纤维为原料进行纺纱。

4.根据权利要求1所述的一种超轻高阻隔核生化防护材料,其特征在于,所述功能层(4)采用纳米白炭黑掺杂改性聚偏二氟乙烯膜制成。

5.一种超轻高阻隔核生化防护材料加工方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步、采用多层共挤出技术进行加工将高阻隔乙烯—乙烯醇共聚物(11)夹在两层尼龙膜(12)之间,然后在两层尼龙膜(12)的外侧贴合一层乙烯聚合物(13),进而制成阻隔层;

第二步、采用高密度聚乙烯纤维为原料通过整经、上浆和并轴工艺将高密度聚乙烯纤维制造成线;

第三步、然后对高密度聚乙烯纤维制成的线进行纺纱,通过喷水织造机将线交错制成网格状的承力层(2);

第四步、将纳米白炭黑掺杂在改性聚偏二氟乙烯膜的表面上制造成外层功能层(4)。

第五步、用干法层压复合工艺和挤出流延工艺将第一阻隔层(1)、承力层(2)、第二阻隔层(3)和功能层(4)依次压合成型。

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