[发明专利]一种响应型NO纳米药物、其制备方法及应用

权利要求书

1.一种响应型NO纳米药物,其特征在于：以空心介孔有机硅纳米颗粒作为载体材料,该载体材料同时负载JS-K和L-精氨酸。

2.根据权利要求1所述的响应型NO纳米药物，其特征在于，所述空心介孔有机硅纳米颗粒的直径为45.4±5.2nm，空腔尺寸为33.4±5.2nm，孔尺寸为3-4.5nm。

3.根据权利要求1或2所述的响应型NO纳米药物，其特征在于，所述的JS-K和所述的L-精氨酸分别装载在空心介孔有机硅纳米颗粒的空腔和介孔孔道中，所述JS-K和L-精氨酸在空心介孔有机硅纳米颗粒中的装载量分别为质量百分比3-8％和质量百分比8-20％。

4.权利要求1-3任一项所述的响应型NO纳米药物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(a)实心SiO₂纳米颗粒的制备：将十六烷基三甲基氯化铵、水与三乙醇胺混合，搅拌均匀后，滴加正硅酸四乙酯，反应得到实心SiO₂纳米颗粒溶液；

(b)介孔有机硅包被的实心SiO₂纳米颗粒的制备:将步骤(a)所获得的实心SiO₂纳米颗粒溶液中加入双-[r-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物和正硅酸四乙酯的混合硅源，充分反应后,得到介孔有机硅包被的实心SiO₂纳米颗粒的悬浊液；

(c)空心介孔有机硅纳米颗粒的制备:将步骤(b)中得到的介孔有机硅包被的实心SiO₂纳米颗粒的悬浊液离心后，得到的固体以乙醇洗涤后分散于浓盐酸的乙醇溶液中，加热反应除去作为模板的十六烷基三甲基氯化铵；再使用氨水选择性刻蚀实心SiO₂纳米颗粒的内核，得到空心介孔有机硅纳米颗粒；

(d)HOS-J_R的制备：

采用“真空灌注”法，将空心介孔有机硅纳米颗粒分散到JS-K的DMSO溶液中；然后在超声处理下将水滴加到溶液中；通过离心，最后产物溶于水中，获得HOS-J_R；

(e)HOS-L_O的制备

将空心介孔有机硅纳米颗粒和L-精氨酸分散于纯水中，室温下搅拌，通过离心，最后产物溶于水中，获得HOS-Lo；

(f)HOS-J_RL_O的制备

将HOS-J_R和L-精氨酸或将HOS-L_O和JS-K分散于纯水中，室温下搅拌；通过离心，最后产物溶于水中，获得HOS-J_RL_O。

5.根据权利要求4所述的响应型NO纳米药物的制备方法，其特征在于，步骤(a)中，十六烷基三甲基氯化铵、水、三乙醇胺和正硅酸四乙酯的体积比为(1.8-2.0):(20-25):(0.06-0.1):(0.8-1.0)；所述反应的温度为95摄氏度，所述反应的时间为1-2小时。

6.根据权利要求4所述的响应型NO纳米药物的制备方法,其特征在于，步骤(b)中，所述实心SiO₂纳米颗粒溶液、双-[r-(三乙氧基硅)丙基]-四硫化物和正硅酸四乙酯的体积比为2:1:-1:1。

7.根据权利要求4所述的响应型NO纳米药物的制备方法,其特征在于，步骤(c)中，所述浓盐酸在乙醇溶液中的质量百分数是5-15％。

8.根据权利要求4所述的响应型NO纳米药物的制备方法,其特征在于，步骤(d)中，所述空心介孔有机硅纳米颗粒和JS-K的质量比为1:1-4:1,所述JS-K在DMSO溶液中的浓度为5-10g/L,所述DMSO和水的体积比为1:1-1:2，所述超声的时间为5-15分钟。

9.根据权利要求4所述的响应型NO纳米药物的制备方法,其特征在于，步骤(e)中，空心介孔有机硅纳米颗粒和L-精氨酸的质量比为1:10-1:20。