[发明专利]用于调整遮罩的布局图案的方法在审
| 申请号: | 202110120841.6 | 申请日: | 2021-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN113050370A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
| 发明(设计)人: | 张世明;梁伟轩 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/76 | 分类号: | G03F1/76;G03F1/70;G03F1/36 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 调整 布局 图案 方法 | ||
1.一种用于调整遮罩的布局图案的方法,其特征在于,包含:
基于一遮罩空白板的多个缺陷的讯息来移动或旋转一整个布局图案,以避免当在该遮罩空白板上产生作为一遮罩的一布局图案时,所述多个缺陷的一个或多个第一缺陷中的一个的影响,其中将该遮罩投影在一晶片上以在该晶片上产生该布局图案;
基于所述多个缺陷的其余缺陷的一第二缺陷的讯息来调整在一第一位置处的该遮罩的该布局图案,以基于一第一接受标准来减少该第二缺陷对该晶片的该布局图案的影响;以及
基于与该第二缺陷不同的所述多个缺陷的该其余缺陷的一第三缺陷的讯息来调整在一第二位置处的该遮罩的该布局图案,以基于一第二接受标准移动该第三缺陷对该晶片的该布局图案的一影响位置。
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