[发明专利]基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法、系统、设备及介质

权利要求书

1.一种基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，包括：

在掩模主体图形边缘添加冗余图形；

基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式；其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度；

所述基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式，包括：

对所述冗余图形依次进行切分和编码，以获得各所述冗余图形添加方式，各所述冗余图形添加方式构成所述遗传算法的初始化种群；

计算各所述冗余图形添加方式对应的侧壁角的角度；

判断所述侧壁角的角度和累积迭代次数是否同时满足预设约束条件；

若满足，则确定所述目标冗余图形添加方式；

反之，则根据所述遗传算法生成下一代种群，并计算所述下一代种群中冗余图形添加方式对应的侧壁角的角度，直至所述侧壁角的角度和所述累积迭代次数同时满足所述预设约束条件。

2.根据权利要求1所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述掩模主体图形为掩模板上的原图形，所述冗余图形为所述掩模板上原图形的边缘区域添加的图形，通过增添重复的图形，来改变掩模板上原图形的衍射光的分布情况。

3.根据权利要求1所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述预设约束条件为所述侧壁角的角度位于预设侧壁角的角度误差范围内和所述累积迭代次数大于或等于预设迭代次数。

4.根据权利要求1所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述对所述冗余图形依次进行切分和编码，包括：

将所述冗余图形切分为各冗余图形区域；

将各所述冗余图形区域以透光和不透光的方式排列并编码。

5.根据权利要求1所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述计算各所述冗余图形添加方式对应的侧壁角的角度，包括：

获取各所述冗余图形添加方式的衍射光分布；

基于所述衍射光分布，利用光刻成像模型和显影模型仿真计算所述侧壁角的角度。

6.根据权利要求1所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述根据所述遗传算法生成下一代种群，包括：

根据所述侧壁角的角度，计算得到所述遗传算法的目标函数，并根据所述目标函数计算各所述冗余图形添加方式的适应度值；

对各所述冗余图形添加方式按所述适应度值降序排列；

对降序排列后的各所述冗余图形添加方式依次进行选择、交叉及变异，以生成所述下一代种群。

7.根据权利要求6所述的基于遗传算法的掩模侧壁角控制方法，其特征在于，所述目标函数的表达式为：

其中，为目标侧壁角的角度的轮廓分布，Z为实际侧壁角的角度的轮廓分布，为所述目标侧壁角的角度的轮廓分布与所述实际侧壁角的角度的轮廓分布之间的欧拉距离的平方，为矩阵的二范数；

所述适应度值的表达式为

8.一种基于遗传算法的掩模侧壁角控制系统，其特征在于，包括：

冗余图形添加模块，用于在掩模主体图形边缘添加冗余图形；

冗余图形调控模块，用于基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式；其中，一组或多组所述目标冗余图形添加方式对应掩模侧壁角的角度；

所述基于遗传算法调控所述冗余图形的添加方式，以确定目标冗余图形添加方式，包括：

对所述冗余图形依次进行切分和编码，以获得各所述冗余图形添加方式，各所述冗余图形添加方式构成所述遗传算法的初始化种群；

计算各所述冗余图形添加方式对应的侧壁角的角度；

判断所述侧壁角的角度和累积迭代次数是否同时满足预设约束条件；

若满足，则确定所述目标冗余图形添加方式；

反之，则根据所述遗传算法生成下一代种群，并计算所述下一代种群中冗余图形添加方式对应的侧壁角的角度，直至所述侧壁角的角度和所述累积迭代次数同时满足所述预设约束条件。