[发明专利]一种光响应型分子印迹材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，包括：

将模板分子磺胺二甲基嘧啶和MAPASA溶解在乙醇水溶液中，在黑暗条件下聚合，接着加入分散有PMMA的水溶液，搅拌后加入交联剂和引发剂，通入氮气，在黑暗条件中反应，反应结束后离心、洗涤、干燥，最后将干燥产物用含乙酸的甲醇溶液洗脱并干燥，得到PMMA@MIPs纳米粒子。

2.根据权利要求1所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述MAPASA采用如下方式制备：将对氨基苯磺酸和碳酸钾溶于去离子水中，然后加入将亚硝酸钠NaNO₂，冷却后滴加盐酸溶液，并在冰水浴下搅拌；接着加入含有苯酚和K₂CO₃的水溶液，冰水浴中搅拌混合物，并调节pH至2，离心，洗涤，得到PABSA；

将DMAP、三乙胺和PABSA溶于四氢呋喃THF中，在冰水浴下滴加氯甲基丙酸烯搅拌，接着加入饱和盐水溶液，离心、盐酸溶液洗涤，冷冻干燥得到MAPASA。

3.根据权利要求1所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述聚甲基丙烯酸甲酯PMMA纳米粒子采用如下步骤制备：

将甲基丙烯酸甲酯和超纯水混合搅拌，然后加入过硫酸钾，在氮气氛围下升温至80℃反应24小时，反应结束后离心、干燥，得到聚甲基丙烯酸甲酯PMMA纳米粒子。

4.根据权利要求1所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述PMMA、磺胺甲二甲基嘧啶、MAPASA的用量比为0.1-0.2g：0.08-0.12mmol：0.35-0.45mmol。

5.根据权利要求1所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述MAPASA、交联剂、引发剂的用量比为0.35-0.45mmol：1.8-2.2mmol：0.08-0.12g。

6.根据权利要求5所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述交联剂为EGDMA，所述引发剂为过硫酸钾。

7.根据权利要求1所述的光响应型分子印迹材料的制备方法，其特征在于，所述反应条件为70℃下反应24h。

8.权利要求1~7中任一项所述方法制备的光响应型分子印迹材料，其特征在于，所述光响应型分子印迹材料基于4-[（4-甲基丙烯酰氧）偶氮苯基]苯磺酸MAPASA制备而成；所述光响应型分子印迹材料具有粒径均匀的球形核壳结构，在365nm和440nm纳米波长条件下发生顺反异构。

9.权利要求8所述的光响应型分子印迹材料在富集/分离液体中磺胺二甲基嘧啶的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述液体为牛奶。