[发明专利]一种AMOLED显示屏及其制造方法

权利要求书

1.一种AMOLED显示屏，其特征在于，至少包括：

平坦层，设置在所述平坦层上的中间层，以及，设置在所述中间层上的阳极层；其中，

所述中间层第一区域的表面粗糙度小于所述中间层第二区域的表面粗糙度，所述第二区域的表面粗糙度大于所述平坦层的表面粗糙度；

所述第一区域为所述中间层上除去所述第二区域之外的其它区域，所述第二区域为所述阳极层中预定类型像素在中间层上对应的区域，所述预定类型像素包括R色像素和/或B色像素。

2.如权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述第一区域为经过脉冲激光处理后的区域。

3.如权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，全部所述第二区域所占面积为全部预定类型像素所占面积的一半。

4.如权利要求3所述的AMOLED显示屏，其特征在于，一个所述第二区域的图案对应一个预定类型像素的图案。

5.如权利要求3所述的AMOLED显示屏，其特征在于，一个所述第二区域的图案对应一个预定类型像素的部分图案。

6.如权利要求1所述的AMOLED显示屏，其特征在于，所述阳极层为复合型透明导电膜ITO/Ag/ITO。

7.如权利要求1至6中任一项所述的AMOLED显示屏，其特征在于，还包括：

设置在所述阳极层上的发光材料层，以及，设置在所述封装层之上的所述发光材料层。

8.一种AMOLED显示屏的制造方法，其特征在于，至少包括：

在平坦层上采用等离子体增强化学的气相沉积法沉积一层中间层，其中，沉积的所述中间层的表面粗糙度大于所述平坦层的表面粗糙度；

采用预定方式处理所述中间层上的第一区域，以使得所述中间层第一区域的表面粗糙度小于所述中间层第二区域的表面粗糙度，其中，所述第一区域为所述中间层上除去所述第二区域之外的其它区域，所述第二区域为阳极层中预定类型像素在中间层上对应的区域，所述预定类型像素包括R色像素和/或B色像素。

9.如权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述采用预定方式处理所述中间层上的第一区域，包括：

采用脉冲激光处理所述中间层上的第一区域。

10.如权利要求8或9所述的制造方法，其特征在于，所述采用预定方式处理所述中间层上的第一区域之后，还包括：

在采用所述预定方式处理后的所述中间层上沉积所述阳极层；

在所述阳极层上蒸镀发光材料，以形成发光材料层；

在蒸镀完发光材料层上进行薄膜封装。