[发明专利]等离子体射流装置及杀菌方法

说明书

本申请提供了一种等离子体射流装置及杀菌方法，该射流装置包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。该射流装置无需设置多个喷射机构，利用可调节角度的单个喷射机构对待灭菌物体进行灭菌，灭菌面积大，均匀覆盖待灭菌区域，无需对待灭菌物体进行反复灭菌，降低了生产成本。

技术领域

本申请属于等离子体技术领域，更具体地说，是涉及一种等离子体射流装置及杀菌方法。

背景技术

随着等离子体医学的兴起，等离子体射流的应用越来越广泛，受到更多人的关注。低温等离子体射流主要用于对培养皿等医疗器械进行灭菌，一般安装在射流管内，通过射流管喷射等离子体对培养皿进行喷射灭菌。为了扩大单次的喷射面积，提高灭菌效率，目前的等离子体射流装置通过增加射流管的数量，来扩大单次的喷射面积，提高灭菌效率。可是这样设置在实际使用时，会经常导致培养皿表面喷射不均匀，因而需要对培养皿进行反复喷射。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种等离子体射流装置及杀菌方法，以解决现有技术中喷射装置需要对培养皿反复喷射的技术问题。

为实现上述目的，本申请采用的技术方案是：提供了一种等离子体射流装置，包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；

所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。

可选地，所述第二驱动组件的转动轴贯穿所述安装座，并与一放置部相连，所述喷射机构设置于所述放置部；

所述安装座设有控制开关，所述控制开关与所述第二驱动组件电性连接。

可选地，所述控制开关为微动开关，所述放置部朝向所述微动开关的一侧在旋转过程中，与所述微动开关在接触和分离状态之间切换。

可选地，第一驱动组件的转动轴通过联轴器与传动座相连，所述传动座远离所述联轴器的端部与所述安装座相连。

可选地，所述第一驱动组件还包括导电滑环，所述导电滑环套设在所述传动座上。

可选地，所述第一侧设有放置所述待灭菌物体的旋转座。

可选地，所述第一驱动组件的动力源为第一步进电机；所述第二驱动组件的动力源为第二步进电机。

可选地，所述安装座的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面平行，所述喷射机构的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面垂直。

此外，本申请还提供了一种杀菌方法，采用上述的等离子体射流装置，包括以下步骤：

通过第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射端相对待灭菌物体的喷射角度；通过第一驱动组件控制所述喷射端在各喷射角度下绕所述待灭菌物体旋转进行杀菌。

可选地，当所述第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射角度时，所述第一驱动组件根据所述喷射角度的调节量，控制所述喷射机构的旋转速度和/或旋转时间跟随所述调节量发生变化。