[发明专利]等离子体射流装置及杀菌方法

权利要求书

1.一种等离子体射流装置，其特征在于，包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；

所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交，所述第二驱动组件的转动轴贯穿所述安装座，并与一放置部相连，所述喷射机构设置于所述放置部，所述安装座设有控制开关，所述控制开关与所述第二驱动组件电性连接，所述控制开关设置于所述喷射机构的旋转路径中，

其中，所述第一驱动组件驱动所述安装座并带动所述第二驱动组件和所述喷射机构旋转，所述第一驱动组件的动力源为第一步进电机，所述第二驱动组件的动力源为第二步进电机。

2.如权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述控制开关为微动开关，所述放置部朝向所述微动开关的一侧在旋转过程中，与所述微动开关在接触和分离状态之间切换。

3.如权利要求1所述的等离子体射流装置，其特征在于，第一驱动组件的转动轴通过联轴器与传动座相连，所述传动座远离所述联轴器的端部与所述安装座相连。

4.如权利要求3所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述第一驱动组件还包括导电滑环，所述导电滑环套设在所述传动座上。

5.如权利要求1至4任一项所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述第一侧设有放置所述待灭菌物体的旋转座。

6.如权利要求1至4任一项所述的等离子体射流装置，其特征在于，所述安装座的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面平行，所述喷射机构的旋转平面与所述待灭菌物体所在平面垂直。

7.一种杀菌方法，其特征在于，采用权利要求1至6任一项所述的等离子体射流装置，包括以下步骤：

通过第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射端相对待灭菌物体的喷射角度；通过第一驱动组件控制所述喷射端在各喷射角度下绕所述待灭菌物体旋转进行杀菌。

8.如权利要求7所述的杀菌方法，当所述第二驱动组件调节所述喷射机构的喷射角度时，所述第一驱动组件根据所述喷射角度的调节量，控制所述喷射机构的旋转速度和/或旋转时间跟随所述调节量发生变化。