[发明专利]第一清洗装置、包括该装置的清洗设备以及清洗方法

权利要求书

1.一种第一清洗装置，包括：

第一清洗浴；

盖，所述盖设置在所述第一清洗浴的上部处；

排放部分，所述排放部分设置在所述第一清洗浴的下部处；

第一清洗单元和第二清洗单元，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元分别设置在所述第一清洗浴中的第一侧表面和第二侧表面处；以及

第一运动单元和第二运动单元，所述第一运动单元和所述第二运动单元分别构造成使所述第一清洗单元和所述第二清洗单元运动，其中

所述第一清洗单元和所述第二清洗单元中的每一个包括：

多个清洗溶液供应管，所述多个清洗溶液供应管设置在不同高度处；以及

多个喷嘴，所述多个喷嘴设置在所述多个清洗溶液供应管中的每一个处，

设置在一个清洗溶液供应管处的所述多个喷嘴具有相同的清洗溶液喷射角度，以及

设置在其它清洗溶液供应管处的所述多个喷嘴具有不同的清洗液喷射角度。

2.如权利要求1所述的第一清洗装置，其特征在于，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元配置成，在所述第一清洗浴的中心区域位于它们之间的状态下彼此相对。

3.如权利要求1所述的第一清洗装置，其特征在于，所述第一运动单元和所述第二运动单元分别使所述第一清洗单元和所述第二清洗单元沿水平方向运动。

4.如权利要求1所述的第一清洗装置，其特征在于，

所述第一清洗单元和所述第二清洗单元中的每一个包括沿上下方向配置的第一到第n(n是2或更大整数)清洗溶液供应管，以及

设置在所述第一清洗溶液供应管处的所述喷嘴的喷射角度相对于水平方向小于±10°。

5.如权利要求4所述的第一清洗装置，其特征在于，设置在第m(m是小于n的整数)清洗溶液供应管处的所述喷嘴的喷射角度大于设置在第n清洗溶液供应管处的所述喷嘴的喷射角度，此处，所述喷射角度是所述喷嘴相对于所述水平方向的喷射角度。

6.如权利要求4所述的第一清洗装置，其特征在于，设置在所述第n清洗溶液供应管处的所述喷嘴的喷射角度相对于所述水平方向向下形成30至50°的角度。

7.如权利要求1所述的第一清洗装置，其特征在于，所述多个喷嘴提供包括纯水(DIW)和表面活性剂的清洗溶液。

8.如权利要求4所述的第一清洗装置，其特征在于，设置在所述第一清洗溶液供应管处的阀的打开时间长于设置在所述第n清洗溶液供应管处的阀的打开时间。

9.清洗设备，包括：

如权利要求1至8中任一项所述的第一清洗装置；

第二清洗装置，所述第二清洗装置配置成与所述第一清洗装置相邻，所述第二清洗装置包括第二清洗浴、存储在所述第二清洗浴中的纯水、设置在所述第二清洗浴的下部处的超声发生单元、以及配置成使所述第二清洗浴沿垂直方向振动的搅拌单元；

第三清洗装置，所述第三清洗装置配置成与所述第二清洗装置相邻，所述第三清洗装置包括第三清洗浴和存储在所述第三清洗浴中的分离溶液，所述分离溶液配置成从梁分离多个晶锭；以及

转移装置，所述转移装置构造成将多个晶片从第三清洗装置转移至存储装置。

10.如权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，从所述喷嘴供应的清洗溶液和所述第二清洗装置的第二清洗浴中的纯水具有相同的成分。

11.如权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，在所述第一清洗装置中从所述晶片分离下的第一颗粒的尺寸大于在所述第二清洗装置中从所述晶片分离下的第二颗粒的尺寸。

12.如权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，所述多个晶片经由结合层固定于梁，并且所述分离溶液溶解所述结合层，以在所述第三清洗装置中使所述多个晶片各自地与所述梁分离。