[发明专利]多孔二氧化锰的晶面调控制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 202110078708.9 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN112794366A 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 江莉龙;郑小海;沈丽娟;曹彦宁;梁诗景 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C01G45/02 分类号: C01G45/02;B01J35/10;B01J23/34
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 俞舟舟;蔡学俊
地址: 350002 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 多孔 二氧化锰 调控 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种多孔二氧化锰的晶面调控制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

a. 配置锰的盐溶液;

b. 配置还原剂溶液,与步骤a的溶液混合后加入一些添加剂,进行搅拌;

c. 然后将步骤b中的混合溶液转移到高压反应釜中,经水热处理后室温下自然冷却,过滤后将沉淀洗涤并烘干;

d. 经一定温度焙烧后得到暴露不同晶面的多孔二氧化锰。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤a中所述锰盐为高锰酸钾。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤b中所述还原剂为草酸铵,添加剂为十六烷基三甲基溴化铵、尿素或盐酸。

4. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤c所述水热处理的温度为90~150℃。

5. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤c所述水热处理的时间为12~24h。

6. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤c所述烘干是在90~100 ℃下干燥10~12 h。

7. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤d中所述焙烧的温度为300 ℃,时间为2~4 h。

8. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:步骤d中所述焙烧的升温速率为3~5℃/min。

9.一种如权利要求1-8任一项所述方法制备的暴露不同晶面的多孔二氧化锰在选择性催化氧化H2S中的应用。

10. 根据权利要求9所述的应用,其特征在于:将所述暴露不同晶面的多孔二氧化锰作为催化剂,用于选择性催化氧化H2S,其使用时的颗粒度为40~60目,反应温度为90~240℃。

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