[发明专利]一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法

说明书

本申请涉及光刻胶领域，具体公开了一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法。其中，光刻胶包括如下重量份的组分：A：含羧基丙烯酸酯聚合物30~80份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂3~15份、D：三聚氰胺衍生物1~30份、E：二胺化合物1~10份，按照A组分与B组分重量份总和以100份计；本申请还公开了一种抗蚀剂图案，抗蚀剂图案由上述光刻胶制得；抗蚀剂图案的制备方法为：称取A、B、C、D、E混匀后制成乙醇溶液，喷涂形成感光膜；将感光膜压接到FPC基板上；投影电路图案，使光刻胶固化；清洗，得到所述抗蚀剂图案。本申请的光刻胶低能量固化快，分辨率高；抗蚀剂图案的厚度小，分辨率高；本申请的方法操作简单，制备效率高。

技术领域

本申请涉及光刻胶领域，更具体地说，它涉及一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法。

背景技术

光刻胶，又称光致抗蚀剂，是微细加工技术中的关键性化工材料，其溶解性、粘附性等性质在曝光前后会发生显著变化；光刻胶主要用于将电路图形转移到基板上制备微电子电路，以及集成电路和半导体分立器件的微细加工。

授权公告号为CN101162365B的中国发明专利公开了一种感光树脂组合物及其制备方法和成膜方法，该组合物包括光固化树脂18％-65％、有机溶剂30％-80％和光引发剂0.02-6％，该组合物可应用于光刻胶；光照时，在该感光树脂组合物形成的感光膜上产生光斑，光引发剂吸收光斑能量，促使光固化树脂固化，进而使得光刻胶固化。

针对上述中的相关技术，发明人认为存在以下技术问题：光斑边缘处的能量相比于光斑中心处的能量要低，当相关技术中的光固化树脂接收光斑边缘处的能量照射时，光固化树脂的固化速率较慢，导致光刻胶的凝胶率较小，降低了该光刻胶的分辨率。

发明内容

为了使得光斑边缘处的光刻胶迅速固化，本申请提供一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法。

本申请提供的一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法采用如下的技术方案：

第一方面，本申请提供一种低能量固化的光刻胶，采用如下的技术方案：

一种低能量固化的光刻胶，其特征在于，所述光刻胶包括如下重量份的组分：

A：含羧基丙烯酸酯聚合物30～80份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂3～15份、D：三聚氰胺衍生物1～30份、E：二胺化合物1～10份；其中，A与B的重量份总和以100份计。

光刻胶成型时，C在光照下引发A发生聚合反应，促使光刻胶固化；但是，在能量较低的光斑边缘处，A的聚合反应速率较慢，使得光刻胶固化较慢，不易成型；D能够与A发生亲核加成反应，增加了反应的交联度，使得光刻胶光斑边缘处迅速固化成型，从而提高了光刻胶的凝胶率；但是D与A交联后，会增加感光膜的厚度，使得光刻胶的分辨率降低；B分子高度共轭，具有广阔的光吸收范围，并且B具有良好的光降解性，光照下能促进组分中的聚合物降解成小分子物质，小分子物质从组分中挥发，降低了感光膜的厚度，从而提高了光刻胶的分辨率；但是B易与氧气反应，在空气中易丧失光降解性；E具有较强的还原性，能够优先与氧气反应，对B起到保护作用，减轻了空气对光刻胶固化的影响；本申请的B、D、E配合，促进光刻胶在光斑边缘处迅速固化，同时具有高分辨率。

优选的，所述光刻胶包括如下重量份的组分：

A：含羧基丙烯酸酯聚合物55～65份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂8～12份、D：三聚氰胺衍生物12～16份、E：二胺化合物4～6份；其中，A与B的重量份总和以100份计。

通过采用上述技术方案，由上述组分组成的光刻胶在低能量照射光的照射下，固化更快，分辨率更高。

优选的，所述B选用聚硅烷低聚物，所述B的分子量为1100～1800。