[发明专利]一种低能量固化的光刻胶、抗蚀剂图案及其制备方法在审
| 申请号： | 202110078019.8 | 申请日： | 2021-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN112859520A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 任志龙 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 能量 固化 光刻 抗蚀剂 图案 及其 制备 方法 | ||
1.一种低能量固化的光刻胶，其特征在于，所述光刻胶包括如下重量份的组分：
A：含羧基丙烯酸酯聚合物30~80份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂3~15份、D：三聚氰胺衍生物1~30份、E：二胺化合物1~10份；其中，A与B的重量份总和以100份计。
2.根据权利要求1所述的一种低能量固化的光刻胶，其特征在于：所述光刻胶包括如下重量份的组分：
A：含羧基丙烯酸酯聚合物55~65份、B：光降解共轭低聚物、C：光聚合引发剂8~12份、D：三聚氰胺衍生物12~16份、E：二胺化合物4~6份；其中，A与B的重量份总和以100份计。
3.根据权利要求1所述的一种低能量固化的光刻胶，其特征在于：所述B选用聚硅烷低聚物，所述B的分子量为1100~1800。
4.根据权利要求1所述的一种低能量固化的光刻胶，其特征在于：所述A的分子量为88w~109w。
5.根据权利要求3所述的一种低能量固化的光刻胶，其特征在于：所述C选用肟酯类光引发剂或二茂铁类光引发剂。
6.根据权利要求5所述的一种低能量固化的光刻胶，其特征在于：所述二茂铁类光引发剂选用羰基改性二茂铁。
7.一种抗蚀剂图案，其特征在于：所述抗蚀剂图案主要由权利要求1~6任意一种光刻胶制成。
8.权利要求7所述的一种抗蚀剂图案的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：
按重量份称取A、B、C、D、E，混合均匀，得到混合物；
将混合物溶解在乙醇中，得到质量分数为30~60%的醇溶液；
将醇溶液喷涂在透明支撑体上，形成感光膜；
在真空环境下，控制温度为50℃~70℃，压力为0.3~0.5Mpa，将感光膜压接到FPC基板上；
将电路图案投影至感光膜上，待投影部分固化；
利用碱性溶液将感光膜上未投影部分洗净，固化部分形成所述抗蚀剂图案。
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