[发明专利]多层电路板生产方法有效

专利信息
申请号: 202110075287.4 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN112911836B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 张志刚;陈文利 申请(专利权)人: 惠州市煜鑫达科技有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 梁睦宇
地址: 516006 广东省惠州市仲恺*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 多层 电路板 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种多层电路板生产方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤S10,对覆铜板进行内层加工操作,得到内层板;

步骤S20,在所述内层板的一侧面上黏接耐温胶膜,得到防粘尘板;

步骤S31,取两个所述防粘尘板及半固化片,将所述半固化片间隔在两个所述防粘尘板之间进行层叠,以得到预压板,并且所述防粘尘板上的所述耐温胶膜远离所述半固化片设置;

步骤S32,利用层压机对所述预压板进行加热压合,以得到层压板;

步骤S40,对所述层压板进行去膜操作,得到多层板。

2.根据权利要求1所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述步骤S10的所述内层加工操作,包括:

步骤S11,对大张的覆铜板进行切割,得到符合客户要求的尺寸的覆铜板;

步骤S12,对覆铜板进行前处理,包括磨板、碱洗、水洗、酸洗、水洗、烘干,以去除所述覆铜板表面的披锋及污迹。

3.根据权利要求2所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述步骤S10中的所述内层加工操作还包括:

步骤S13,对所述覆铜板依次进行涂布湿膜、曝光、显影、蚀刻、退膜操作,得到所述内层板。

4.根据权利要求3所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述步骤S10中的所述内层加工操作还包括:

步骤S14,在所述内层板上开设铆钉孔;

步骤S15,对所述内层板进行AOI测试。

5.根据权利要求4所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述步骤S10中的所述内层加工操作还包括:

步骤S16,对所述内层板的铜箔线路进行棕化处理,以增加粗糙度。

6.根据权利要求1所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述多层电路板生产方法还包括:

步骤S50,对所述多层板依次进行钻孔、去钻污及沉铜操作,将上下两层的所述内层板相导通。

7.根据权利要求6所述的多层电路板生产方法,其特征在于,所述多层电路板生产方法还包括:

步骤S60,利用丝印设备在所述多层板表面上丝印阻焊剂、字符。

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