[发明专利]曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备在审
申请号: | 202110069085.9 | 申请日: | 2021-01-19 |
公开(公告)号: | CN113138542A | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 安范模;严永钦;韩新锡 | 申请(专利权)人: | 普因特工程有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 韩国忠清南道*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 用光 照射 装置 包括 设备 | ||
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备,所述曝光机用光照射装置可提供一种如下的曝光机用光照射装置,其包括:支持部;多个发光部,分别各别地设置在所述支持部的一面,且在外周面设置有生成光的多个发光体;以及多个反射部,分别以与所述多个发光部分别对应的方式各别地设置在所述支持部的所述一面,所述多个反射部被分为反射光的主光轴是水平的第一反射组与反射光的主光轴是倾斜的第二反射组。
技术领域
本发明涉及一种曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备,详细来说涉及一种使用多个发光二极管(light emitting diode,LED)用于制造半导体元件或印刷电路基板、液晶显示基板等的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备。
背景技术
以往,作为用于曝光印刷电路基板、液晶显示基板等的光源,大部分使用几千瓦(kW)至几十千瓦的大型高压水银灯。使用高压水银灯的曝光机用光源已经使用了很长时间。
然而,以往使用高压水银灯的曝光机用光源存在如下问题:寿命短、电力耗损大、需要对灯进行预热的预备时间,且在用于由光源损坏引起的更换的时间期间不能曝光,从而导致损失,且必须需要与高温对应的大型冷却设备,为了增加到达照射区域的光的光量及照度而要求光源的大型化,且即使在不需要曝光的时间也不能开关灯。
近来,代替以往的高压水银灯而使用发光二极管(LED)作为新光源的曝光机用光照射装置已经被引入。与水银灯等相比,发光二极管具有发光效率高、节电且发热少的特征,从而可实现降低维护成本。另外,由于与水银灯相比,发光二极管的寿命很长,因此可降低更换带来的成本,且不存在由于劣化等因素而导致破裂的危险性。
然而,在专利文献0001中,在板形部件上二维排列有多个LED来构成曝光机用光源,但是为了获得足够的光量,仍然必须在二维平面上排列大量的LED,且为了使所有LED通过光均质部,必然会使曝光机用光源与光均质部之间的距离隔开规定距离以上,且因此具有曝光设备变得大型化问题。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本公开专利公报2004-335952(2004.11.25)
发明内容
[发明所要解决的问题]
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备可将曝光机用光照射装置与光均质部之间的距离布置在规定距离以内,从而可将曝光机用光照射装置及曝光设备小型化。
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备可提供一种通过三维排列多个发光体来获得足够的光量,同时在上、下及左、右方向实现小型化的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备。
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备可通过布置与三维排列的多个发光体对应的反射面来提供垂直于照射区域的平行光。
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备可将由无法到达照射区域的射光产生的损失光最小化。
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备可将照射区域中可能产生的阴影区最小化,且可具有均匀的照度。
[解决问题的技术手段]
根据本发明一实施例的曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备,可提供一种曝光机用光照射装置,包括:支持部;多个发光部,分别各别地设置在所述支持部的一面,且在外周面设置有生成光的多个发光体;以及多个反射部,分别以与所述多个发光部分别对应的方式各别地设置在所述支持部的所述一面,所述多个反射部被分为反射光的主光轴是倾斜的第一反射组与反射光的主光轴是水平的第二反射组。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于普因特工程有限公司,未经普因特工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110069085.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于测量扭矩的传感器结构
- 下一篇:装置,用于生产这种装置的工具和方法