[发明专利]曝光机用光照射装置及包括其的曝光设备

权利要求书

1.一种曝光机用光照射装置，其特征在于，包括：

支持部；

多个发光部，分别各别地设置在所述支持部的一面，且在外周面设置有生成光的多个发光体；以及

多个反射部，分别以与所述多个发光部分别对应的方式各别地设置在所述支持部的所述一面，

所述多个反射部被分为反射光的主光轴是倾斜的第一反射组与反射光的主光轴是水平的第二反射组。

2.根据权利要求1所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述第一反射组与所述第二反射组相比在所述支持部的所述一面中较中心部分设置在外廓部分处。

3.根据权利要求1所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述反射光的主光轴的方向是将从一个反射部反射的反射光的光轴的方向进行平均的值。

4.根据权利要求1所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述多个发光部及所述多个反射部分别以能够各别地装卸的方式结合到所述支持部。

5.根据权利要求1所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述多个反射部中的每一者包括：

多个反射面，分别与设置在所述多个发光部中的一者的所述多个发光体对应以反射光；以及

反射部本体部，以一体或能够装卸的方式配置所述多个反射面。

6.根据权利要求5所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述多个反射面由抛物线形、椭圆、自由曲面中的至少一种形成。

7.根据权利要求1所述的曝光机用光照射装置，其特征在于，

所述支持部其本身为水冷式冷却部件，或通过附着在所述支持部的后面的支持部冷却部来冷却。

8.一种曝光设备，包括曝光机用光照射装置，其特征在于，所述曝光设备包括：

曝光机用光照射装置，生成光；

光圈，去除所述光中不需要的光；

光均质部，使所述光变均质；

至少一个镜，用于将通过所述光均质部的光变为平行光；

掩模台，支持使所述平行光通过的掩模；以及

照射对象台，支持通过所述掩模的光所照射的照射对象，

所述曝光机用光照射装置包括：支持部；多个发光部，分别各别地设置在所述支持部的一面，且在外周面设置有生成光的多个发光体；以及多个反射部，分别以与所述多个发光部分别对应的方式各别地设置在所述支持部的所述一面，

所述多个反射部被分为反射光的主光轴是倾斜的第一反射组与反射光的主光轴是水平的第二反射组。