[发明专利]光刻机、显影装置及显影方法在审
| 申请号： | 202110056672.4 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN114764218A | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 张成根;林锺吉;金在植;丁明正;贺晓彬;刘强;王桂磊;周娜 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯（北京）半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 刘广达 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 显影 装置 方法 | ||
1.一种显影装置，其特征在于，包括：
旋转吸盘，用于支撑晶圆，所述晶圆的表面具有已曝光的光刻胶层；
抬放单元，用于将晶圆装载至所述旋转吸盘，或者从所述旋转吸盘上卸载所述晶圆；
显影单元，用于旋覆显影液至所述晶圆上以显影所述已曝光的光刻胶层；
其中，所述抬放单元包括预设数量的支撑脚，所述支撑脚包括支撑杆和保护帽，所述支撑杆的至少一部分由静电阻断材料制成。
2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述保护帽套在所述支撑杆上与晶圆接触的一端。
3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述静电阻断材料为聚醚醚酮树脂。
4.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述保护帽为聚氨酯材料。
5.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述支撑杆为圆柱形、直径为3毫米。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的显影装置，其特征在于，所述预设数量为3个。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的显影装置，其特征在于，所述旋转吸盘的最大每分钟转速为4000rpm。
8.一种显影装置的显影方法，其特征在于，基于权利要求1-7中任一项所述的显影装置，所述方法包括：
利用抬放单元将晶圆装载至旋转吸盘，所述晶圆的表面具有已曝光的光刻胶层；
利用显影单元旋覆显影液至所述晶圆上以显影所述已曝光的光刻胶层。
9.根据权利要求8所述的显影方法，其特征在于，所述方法进一步包括：利用抬放单元从所述旋转吸盘上卸载所述晶圆。
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