[发明专利]一种用于微光像增强器的高效荧光屏及其制作方法

说明书

本发明公开了一种用于微光像增强器的高效荧光屏及其制作方法。该高效荧光屏包括基底层及在该基底层依次制作的MgF₂增透膜、荧光粉层和铝层，基底层与荧光粉层之间靠特薄胶粘接。该方法的步骤包括：荧光粉的包膜处理及颗粒分选；清洗基底，基底层镀MgF₂增透膜；荧光粉层和基底层之间通过特薄胶粘接，高温焙烧胶层；浸硅酸钾加固粉层，在粉层表面涂覆有机膜；用真空镀膜机镀铝，分两次镀铝，此时蒸镀的铝膜平整性好而具有良好的反射性。本发明通过在现有的刷涂法基础上增加选粉及基底层镀膜等新工序并优化荧光粉的刷涂工艺和镀铝工艺，提高了荧光屏的发光效率和分辨率，有效提升了微光像增强器性能，本发明的方法能够适应大规模生产的需求。

技术领域

本发明涉及微光像增强器荧光屏制作技术领域，具体涉及一种用于微光像增强器的高效荧光屏及其制作方法。

背景技术

微光像增强器是用于探测和识别微光目标的一种器件，主要包括光电阴极、电子光学系统及荧光屏等。

荧光屏作为图像输出端，直接关系到图像亮度、图像细节再现及图像耦合传输的质量。随着微光夜视装备的不断发展，对荧光屏提出了更高的要求，微光像增强器要求荧光屏具有较高的发光效率和分辨率、适于人眼观察的光谱特性、合适的余辉等，其中发光效率是荧光屏的重要指标之一，它反应了电子转换为光子的能力，而荧光屏的发光效率受到荧光粉性能、荧光屏的制作方法、微光像增强器工作参数等多方面的影响。

制作荧光屏的方法很多，有重力沉淀法、离心沉淀法、蒸发法、喷涂法、刷涂法等，对于微光像增强器而言，现有的荧光屏制作方法是刷涂法，主要工序为清洗基底(玻璃或光纤面板)、滴胶(厚胶)、刷粉(手工撒粉)、涂有机膜、镀铝等。

实际生产过程中，使用未包膜处理的荧光粉、厚胶和硝化纤维素为主要成分的有机膜，制屏后荧光屏的发光效率、分辨率较差，采用人工撒粉后的粉层均匀性较差，且效率较低，不适合批量生产。

发明内容

本发明的目的在于：根据现有荧光屏制作方法的不足，通过增加选粉及基底层镀膜的新工序、优化荧光粉的刷涂工艺、镀铝工艺，提高了荧光屏的发光效率和分辨率，提升整管性能。

本发明为实现上述目的，具体技术方案如下：

所述的微光像增强器的高效荧光屏及其制作方法，其中步骤包括：荧光粉的包膜处理；荧光粉的颗粒分选；清洗基底，在基底上镀MgF₂增透膜；涂胶；刷粉；掸粉检验；加温焙烧；浸硅酸钾溶液；干喷有机膜；镀铝；检验；抛光法兰盘；点银。

所述的荧光粉的包膜处理，其过程为：将荧光粉与包膜液混合，充分搅拌后静置干燥，在空气中进行高温烧结处理。对荧光粉表面进行包膜处理可以保护荧光粉体，提高热稳定性，降低光衰，延长使用寿命。

具体地，所述的荧光粉的颗粒分选是利用重力沉淀法进行颗粒分选。荧光粉的颗粒分选是在稀硅酸钾溶液中进行的，通过荧光粉的颗粒分选，选取颗粒直径为2μm～4μm的荧光粉用于涂屏，在获得均匀性和致密性较好的粉层的同时，可有效增加荧光粉的发光强度。

所述的在基底上镀MgF₂增透膜是利用真空蒸镀法镀MgF₂增透膜。制屏前在基底上先蒸镀MgF₂增透膜，可减少与荧光粉层相接触的基底上光的反射，提高光的透过率。

具体地，所述的基底为玻璃、光纤面板、光纤扭像器等。

所述的涂胶是采用2046特薄树脂胶作为粘接剂将荧光粉层粘接在基底上。胶层的厚度更薄，对粒度较为均匀的荧光粉，在胶层上的排布更均匀、平整度更好。

具体地，所述的2046特薄树脂胶是用乙酸丁酯、2046树脂、邻苯二甲酸二丁酯和异丁醇等配制而成。