[发明专利]提高光栅周期测量精度的装置和方法

权利要求书

1.一种提高光栅周期测量精度的装置，其特征在于，包括：

激光器，所述激光器用于发出预设波长的激光；

第一隔离器，所述第一隔离器上设置有第一通孔，所述激光穿射所述第一通孔，所述第一隔离器用于防止所述激光反射至所述激光器；

第二隔离器，所述第二隔离器上设置有第二通孔，所述激光经所述第一通孔后穿射所述第二通孔；

多个反射镜，多个所述反射镜用于反射改变所述激光的方向；

转台，所述转台上设置有光栅，所述激光经过所述反射镜反射至所述光栅，并经由所述光栅衍射后原路返回；

探测器，所述探测器用于在所述第二通孔处对衍射后的光斑进行取样；

所述转台还包括：光栅支架，所述光栅支架用于固定所述光栅；

所述转台还包括：俯仰台，所述光栅支架固定在所述俯仰台上；

将所述光栅固定在所述光栅支架上，通过调节所述光栅支架位置和所述俯仰台角度，使得所述待测光栅前表面的垂直轴线与所述转台的轴线重合；

控制所述转台，使得照射在所述待测光栅前表面的入射光斑和衍射光斑在同一条直线上；

得到所述待测光栅的两倍衍射角θ，

通过光栅方程：

计算得出所述待测光栅周期测量值；

其中，ds为光栅周期测量结果，为测量光真空标定光波长，为空气折射率，为两倍衍射角，为入射光与衍射光在与转台垂直平面内的夹角。

2.根据权利要求1所述的提高光栅周期测量精度的装置，其特征在于，所述预设波长为633nm。

3.根据权利要求1所述的提高光栅周期测量精度的装置，其特征在于，所述反射镜为镀银反射镜。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的提高光栅周期测量精度的装置，其特征在于，还包括：处理器，所述处理器和所述探测器连接，并对所述探测器取样后的所述激光进行处理。

5.一种提高光栅周期测量精度的方法，其特征在于，应用在根据权利要求1-4中任一项所述的提高光栅周期测量精度的装置上，包括以下步骤：

S1，通过激光器发出预设波长的激光，经过第一通孔、第二通孔，再经反射镜两次反射改变方向，照射到待测光栅位置；

S2，将所述待测光栅固定在光栅支架上，通过调节所述光栅支架位置和俯仰台角度，使得所述待测光栅前表面的垂直轴线与转台的轴线重合；

S3，通过自编程序控制所述转台，使得照射在所述待测光栅前表面的入射光斑和衍射光斑在同一条直线上；

S4，通过步骤S3得出所述待测光栅的两倍衍射角θ，代入光栅方程，计算得出光栅周期测量值。