[发明专利]自动水磨设备

权利要求书

1.自动水磨设备，所述自动水磨设备执行自动水磨，在所述自动水磨中，研磨滑动体压靠在已被涂装的涂装物体的涂装面上，并且所述研磨滑动体随着水在所述研磨滑动体与所述涂装面之间流动而移动，以研磨所述涂装面，所述自动水磨设备包括：

壳体，其形成所述水的引入空间；

供水管，其向所述引入空间供应所述水；

盘，其定位为在执行所述自动水磨的状态下比所述引入空间更靠近所述涂装面；

缓冲垫，其随着所述盘一体地移动，并且所述研磨滑动体安装在所述缓冲垫上；

盘中心孔，其形成在所述盘的中心部分处；

垫中心孔，其形成在所述缓冲垫的中心部分处，并且与所述盘中心孔连通；以及

推出装置，其经由所述盘中心孔和所述垫中心孔朝向所述涂装面将已通过所述供水管供应至所述引入空间的水推出，

其中，所述推出装置具有搅拌头，所述搅拌头设置在所述壳体内部并且搅拌位于所述引入空间中的水，并且

其中，所述盘具有盘孔和连通通道，所述盘孔形成在相对于所述盘中心孔的外周侧的位置处，并且所述盘孔与所述引入空间连通，所述连通通道使所述盘孔与所述盘中心孔之间连通以在所述盘中形成从所述盘孔通过所述连通通道到所述盘中心孔的水通道，所述垫中心孔通过所述水通道与所述引入空间连通。

2.根据权利要求1所述的自动水磨设备，包括用于使所述搅拌头旋转的旋转动力源，其中，所述搅拌头的中心位置偏离所述旋转动力源的驱动轴的旋转中心。

3.根据权利要求2所述的自动水磨设备，其中，所述搅拌头的位于偏离侧的外边缘的位置位于相对于所述盘孔的外周端的内周侧。

4.根据权利要求1所述的自动水磨设备，其中：

所述盘被所述搅拌头支撑，以能够相对于所述搅拌头旋转；以及

设置有由弹性材料制成的密封构件，所述密封构件的一个端部边缘被所述壳体支撑，而另一端部边缘接触所述盘的面向所述引入空间的表面，并且所述密封构件密封所述壳体与所述盘之间的间隙。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的自动水磨设备，其中，所述盘中心孔的内径设定为小于所述垫中心孔的内径。

6.根据权利要求2或3所述的自动水磨设备，其中，所述盘的中心位置偏离所述旋转动力源的所述驱动轴的所述旋转中心，并且所述偏离的尺寸设定为小于所述盘中心孔的内径的一半。