[发明专利]一种具有金属网格的导电膜及其生产工艺

权利要求书

1.一种具有金属网格的导电膜的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1)涂布；

在基材表面涂布光刻胶，涂布后进行高温固化，固化温度70～110℃，固化时间10s～5min，形成光刻胶层；在光刻胶层的表面涂布钯催化剂，烘干形成催化剂层；在催化剂层的表面涂布防护层材料，烘干后制得防护层，制得膜片A；

2)曝光：在膜片A涂布有光刻胶的一侧设置掩膜版，利用汞灯或LED灯进行曝光，曝光能量为1～1000mj/cm2，制得膜片B；

3)显影：

取膜片B利用显影液进行显影处理，显影时间为0.1～3min，显影后利用清洗液进行洗涤，洗涤时间为1～60s，形成由光刻胶和催化剂组成的网格图案，制得膜片C；

4)化铜：

取铜盐、络合剂、pH调节剂、还原剂、稳定剂制得镀铜液，取膜片C置于镀铜液中，镀铜液的温度为30～45℃，处理0.5～15min，形成第一金属层，制得膜片D；

5)电镀：

以含少量磷元素的铜球或者铜条作为阳极，膜片D作为阴极，置于电镀液中进行电解，形成第二金属层，制得基膜E；

6)黑化：

取基膜E置于黑化液中，在第二金属层的表面形成黑化层，黑化工艺为：黑化温度25～40℃，时间0.1～10min，制得基膜F；

7)制备保护层：

取基膜F，在黑化层的表面涂布高透明的高分子材料，而后于80～120℃温度下烘烤0.5～10min，形成保护层，制得成品导电膜。

2.根据权利要求1所述的一种具有金属网格的导电膜的生产工艺，其特征在于：所述步骤2)中曝光波长为300～450nm全波段，314nm或365nm单波段，365nm、404.66nm、435.86nm多波段中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的一种具有金属网格的导电膜的生产工艺，其特征在于：所述步骤3)中显影液为四甲基氢氧化铵、氢氧化钠、2,6-二乙基苯胺、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种具有金属网格的导电膜的生产工艺，其特征在于：所述步骤5)的电镀工艺为：电流密度1～3A/dm2，电解温度40～70℃，电解时间1～8h。

5.根据权利要求1-4任一项所述生产工艺制得的一种具有金属网格的导电膜，包括基材、金属网格和保护层，其特征在于：所述金属网格位于基材和保护层之间，所述金属网格按层叠顺序依次包括光刻胶层、催化剂层、金属层和黑化层，所述光刻胶层与基材接触，所述黑化层与保护层接触。

6.根据权利要求5所述的一种具有金属网格的导电膜，其特征在于：所述金属层按层叠顺序依次包括第一金属层和第二金属层，所述第一金属层与催化剂层接触，所述第二金属层与黑化层接触。

7.根据权利要求6所述的一种具有金属网格的导电膜，其特征在于：所述第一金属层和第二金属层的厚度和为0.2～2μm。

8.根据权利要求5所述的一种具有金属网格的导电膜，其特征在于：所述基材为透明薄膜，所述基材为PET、PC、PI、COP、COC、PEN、TAC单组分薄膜、PC/PMMA复合薄膜中的一种，

所述光刻胶层的厚度为0.3～2μm，所述催化剂层厚度为0.03～0.2μm，所述黑化层厚度0.03～0.05μm，所述保护层的厚度1～3μm。