[发明专利]光敏晶体管、彩膜基板及其制作方法

权利要求书

1.一种光敏晶体管，其特征在于，包括：

透光基板；

栅极层，设于所述透光基板上，所述栅极层具有透光区；

栅极绝缘层，设于所述透光基板上且完全覆盖所述栅极层；

有源层，设于所述栅极绝缘层上，所述有源层具有沟道区，所述沟道区与所述透光区对应设置；以及

源漏极层，设于所述栅极绝缘层上并与所述有源层的沟道区两端分别电连接。

2.根据权利要求1所述的光敏晶体管，其特征在于，所述栅极层包括：

透光层，设于所述透光基板上；以及

金属层，设于所述透光层上；所述金属层的中部设有通孔，所述透光区位于所述通孔位置。

3.根据权利要求1所述的光敏晶体管，其特征在于，还包括：

减反射膜，设于所述透光基板与所述栅极层之间。

4.根据权利要求3所述的光敏晶体管，其特征在于，所述减反射膜的折射率大于所述透光基板的折射率且小于所述栅极层的透光区的折射率。

5.根据权利要求3所述的光敏晶体管，其特征在于，所述减反射膜的折射率n满足其中n为所述减反射膜的折射率，n1为所述透光基板的折射率，n2为所述栅极层的透光区的折射率。

6.根据权利要求3所述的光敏晶体管，其特征在于，所述减反射膜的厚度e满足其中λ为绿光的波长，n为所述减反射膜的折射率，k为自然整数。

7.一种彩膜基板，其特征在于，包括权利要求1-6中任一项所述的光敏晶体管。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括驱动晶体管以及黑色矩阵层，所述驱动晶体管与所述光敏晶体管同层设置；所述黑色矩阵层对应设于所述驱动晶体管及所述光敏晶体管的上方。

9.一种权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

在所述透光基板上制作栅极层，所述栅极层具有透光区；

在所述透光基板上制作栅极绝缘层，所述栅极绝缘层完全覆盖所述栅极层；

在所述栅极绝缘层上制作有源层，所述有源层具有沟道区，所述沟道区与所述透光区对应设置；以及

在所述栅极绝缘层上制作源漏极层，所述源漏极层与所述有源层的沟道区两端分别电连接。

10.根据权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在制作源漏极层之后还包括：

在所述源漏极层上制作钝化层，并通过黄光工艺及干法刻蚀工艺或者通过曝光/显影、高温硬化方式形成过孔；

在所述钝化层上用磁控溅射沉积工艺形成一层氧化铟锡薄膜，并通过黄光工艺及湿法刻蚀工艺形成像素电极层；

在所述像素电极层上用光刻工艺制作黑色矩阵层；以及

在所述黑色矩阵层上用光刻工艺制作彩膜隔垫物。