[发明专利]物体检测系统和物体检测方法在审
| 申请号: | 202080098693.6 | 申请日: | 2020-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN115298566A | 公开(公告)日: | 2022-11-04 |
| 发明(设计)人: | 对马尚之 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | G01S13/89 | 分类号: | G01S13/89;G01S13/931 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 邓晔;宋俊寅 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 物体 检测 系统 方法 | ||
1.一种物体检测系统,其特征在于,包括:
波动装置,该波动装置照射波动,并接收反射波;
反射电平计算部,该反射电平计算部根据从所述波动装置输出的信号,计算照射野内的每个坐标点的反射电平;
代表点提取部,该代表点提取部将每个所述坐标点的反射电平与以第一设定基准设定的阈值进行比较,将表示比所述阈值更高的反射电平的坐标点作为在所述照射野内存在的物体的代表反射点提取;
线段设定部,该线段设定部设定从所述代表反射点延伸,以所述代表反射点为中心,在所述照射野内沿周向隔开间隔地配置的相同长度的多个线段;
反射点计数部,该反射点计数部使用以计算出的值比所述阈值要低的第二设定基准来设定的第二阈值,分别在多个所述线段中,将表示比所述第二阈值要高的反射电平的坐标点作为反射点进行计数;以及
反射点决定部,该反射点决定部将在多个所述线段中的到被计数的所述反射点较多的上位第二位为止的线段中被计数的反射点决定为来自所述物体的反射点。
2.如权利要求1所述的物体检测系统,其特征在于,
所述线段设定部将多个所述线段的长度设定在3m以上且6m以下的范围内。
3.如权利要求1或2所述的物体检测系统,其特征在于,
所述线段设定部以90°以下的一定间隔配置多个所述线段。
4.如权利要求1至3中任一项所述的物体检测系统,其特征在于,
所述代表反射点的距离越近,所述线段设定部使所述间隔越小。
5.如权利要求1至4中任一项所述的物体检测系统,其特征在于,
使用CFAR法或固定值设定作为所述第一设定基准。
6.如权利要求1至5中任一项所述的物体检测系统,其特征在于,
在所述第二设定基准中,所述第二阈值被设定在与所述阈值之间的差分在所述代表反射点处的主瓣与第一副瓣之间的差的绝对值以下的范围内。
7.一种物体检测方法,其特征在于,包括:
接收照射波动时的反射波,计算照射野内的每个坐标点的反射电平的反射电平计算步骤;
将每个所述坐标点的反射电平与以第一设定基准设定的阈值进行比较,将表示比所述阈值更高的反射电平的坐标点作为在所述照射野内存在的物体的代表反射点提取的代表点提取步骤;
设定从所述代表反射点延伸,以所述代表反射点为中心,在所述照射野内沿周向隔开间隔地配置的相同长度的多个线段的线段设定步骤;
使用以计算出的值比所述阈值要低的第二设定基准来设定的第二阈值,分别在多个所述线段中,将表示比所述第二阈值要高的反射电平的坐标点作为反射点进行计数的反射点计数步骤;以及
将在多个所述线段中的到被计数的所述反射点较多的上位第二位为止的线段中被计数的反射点决定为来自所述物体的反射点的反射点决定步骤。
8.如权利要求7所述的物体检测方法,其特征在于,
在所述线段设定步骤中,所述代表反射点的距离越近,使所述间隔越小。
9.如权利要求7或8所述的物体检测方法,其特征在于,
使用CFAR法或固定值设定作为所述第一设定基准。
10.如权利要求7至9中任一项所述的物体检测方法,其特征在于,
在所述第二设定基准中,所述第二阈值被设定在与所述阈值之间的差分在所述代表反射点处的主瓣与第一副瓣之间的差的绝对值以下的范围内。
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