[发明专利]成像系统及其操作方法在审
| 申请号: | 202080090876.3 | 申请日: | 2020-02-26 |
| 公开(公告)号: | CN114902080A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
| 发明(设计)人: | 曹培炎 | 申请(专利权)人: | 深圳帧观德芯科技有限公司 |
| 主分类号: | G01T1/20 | 分类号: | G01T1/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市南山区招商街道沿山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像 系统 及其 操作方法 | ||
1.一种成像系统,其包括:
图像传感器,该图像传感器包括(a)顶部表面,(b)在所述顶部表面上的M个有源区域,M是大于0的整数,以及(c)在所述顶部表面上并在所述M个有源区域之间的盲区,其使得所述M个有源区域中没有任何一个有源区域与另一个有源区域是直接的物理接触;以及
辐射源系统,其包括电子枪和电子轰击目标,
其中,对于i=1,…,N,N为大于1的整数,所述辐射源系统被配置为通过使来自所述电子枪的电子在辐射位置(i)轰击电子轰击目标的目标表面,而使X射线光子(i)从所述辐射位置(i)发射,
其中对于i=1,…,N,响应于所述X射线光子(i)从所述辐射位置(i)的发射,所述图像传感器被配置为分别在M个有源区域中捕获同一物体的部分(i)的M个图像(i),从而得到M×N个图像,并且
其中所述物体的每个点均被捕获在所述M×N个图像中的至少一个图像中。
2.如权利要求1所述的成像系统,其中所述电子轰击目标具有板状的形状。
3.如权利要求1所述的成像系统,其中所述电子轰击目标被配置为当所述辐射位置(i),i=1,...,N保持在所述电子轰击目标的目标表面上时旋转。
4.如权利要求1所述的成像系统,其中所述电子轰击目标被配置为倾斜、平移或倾斜并平移。
5.如权利要求1所述的成像系统,其中所述辐射源系统被配置为使来自所述电子枪的电子束偏转。
6.如权利要求1所述的成像系统,
其中所述电子轰击目标包括N个目标块,并且
其中对于i=1,…,N,所述辐射位置(i)在所述N个目标块中的一个目标块(i)的目标表面上。
7.如权利要求1所述的成像系统,其中所述电子轰击目标包含钨。
8.如权利要求1所述的成像系统,其中所述电子枪被配置为产生电子束,然后使所述电子束偏转。
9.如权利要求1所述的成像系统,其进一步包括真空管,所述辐射源系统驻留在所述真空管中。
10.如权利要求1所述的成像系统,其进一步包括直流(DC)电压源,所述直流电压源被配置为引起从所述电子轰击目标到所述电子枪的电压降。
11.如权利要求1所述的成像系统,其中M为1,并且N为2。
12.如权利要求1所述的成像系统,其中所述辐射位置(i),i=1,...,N,在平行于所述顶部表面的平面上。
13.一种操作成像系统的方法,其包括:(A)图像传感器,该图像传感器包括(a)顶部表面,(b)所述顶部表面上的M个有源区域,M是大于0的整数,以及(c)在所述顶部表面上并在所述M个有源区域之间的盲区,其使得所述M个有源区域中没有任何一个有源区域与另一个有源区域是直接的物理接触,以及(B)包括有电子轰击目标的辐射源系统,该方法包括:
对于i=1,…,N,N是大于1的整数,通过使电子轰击在辐射位置(i)的所述电子轰击目标的目标表面,依次引起X射线光子(i)从所述辐射位置(i)发射;并且
对于i=1,…,N,响应于所述X射线光子(i)从所述辐射位置(i)的发射,分别在M个有源区域中捕获同一物体的部分(i)的M个图像(i),从而得到M×N个图像,
其中所述物体的每个点均被捕获在所述M×N个图像中的至少一个图像中。
14.如权利要求13所述的方法,其中所述的从所述辐射位置(i)发射X射线光子(i)包括使所述电子轰击目标相对于所述图像传感器保持静止,使得所述辐射位置(i)i=1,...,N,位于所述电子轰击目标的所述目标表面上。
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