[发明专利]感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法

说明书

本发明所涉及的感光性元件具备：支撑膜；及感光层，形成于该支撑膜的第1面上，支撑膜中的第1面的表面电阻率为1×10¹³～1×10¹⁷Ω，与第1面相反的一侧的第2面的表面电阻率为1×10⁸～1×10¹²Ω。

技术领域

本发明涉及一种感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法。

背景技术

在印刷线路板的制造领域中，作为用于蚀刻处理或镀敷处理等的抗蚀剂材料，广泛地使用一种感光性元件，该感光性元件具备在支撑膜上使用感光性树脂组合物来形成的层(以下，也称为“感光层”)。

印刷线路板是使用感光性元件，例如通过以下步骤来制造的。即，首先，将感光性元件的感光层层压于覆铜层叠板等电路形成用基板上。接着，经由掩模膜等对感光层进行曝光来形成光固化部。此时，在曝光前或曝光后剥离支撑膜。然后，用显影液去除感光层的除光固化部以外的区域来形成抗蚀剂图案。接着，将抗蚀剂图案作为抗蚀剂，实施蚀刻处理或镀敷处理来形成导体图案，最后剥离(去除)感光层的光固化部(抗蚀剂图案)。

作为用于感光性元件的支撑膜，有时使用规定了雾度值的支撑膜、限制了润滑剂粒子尺寸的支撑膜等(例如，参考专利文献1及2)。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-13681号公报

专利文献2：日本特开2014-74764号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

随着近年来电路形成的高分辨率化，对用于其的感光性元件及曝光装置所要求的分辨率变高，源自感光性元件的支撑膜的润滑剂或其凝聚物的抗蚀剂缺损(例如，抗蚀剂的碎裂等缺陷)的增加成为问题。并且，若在支撑膜的未形成有感光层的面附着空气中的异物等，则在未剥离支撑膜的情况下进行感光层的曝光时，容易因附着于支撑膜的异物等而产生抗蚀剂缺损。

本发明的目的在于提供一种能够减少发生抗蚀剂缺损的感光性元件、使用该感光性元件的抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法。

用于解决技术课题的手段

本发明所涉及的感光性元件具备：支撑膜；及感光层，形成于该支撑膜的第1面上，支撑膜中的第1面的表面电阻率为1×10¹³～1×10¹⁷Ω，与第1面相反的一侧的第2面的表面电阻率为1×10⁸～1×10¹²Ω。

本发明所涉及的抗蚀剂图案的形成方法包括：层叠工序，将上述感光性元件以感光层、支撑膜的顺序层叠于基板上；曝光工序，通过支撑膜向感光层的规定部分照射活性光线而形成光固化部；及显影工序，去除感光层中的除光固化部以外的区域。

本发明所涉及的印刷线路板的制造方法包括：对具有通过上述抗蚀剂图案的形成方法而形成的抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀敷处理来形成导体图案的工序。

发明效果

根据本发明，能够提供能够减少抗蚀剂缺损数量的感光性元件、使用该感光性元件的抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法。

附图说明

图1是表示感光性元件的一实施方式的示意剖视图。

图2是表示3层结构的支撑膜的一实施方式的示意剖视图。

图3是表示2层结构的支撑膜的一实施方式的示意剖视图。

具体实施方式