[发明专利]感光性元件、抗蚀剂图案的形成方法及印刷线路板的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080090256.X 申请日: 2020-01-28
公开(公告)号: CN114901454A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 贺口阳介;粂壮和;大桥武志 申请(专利权)人: 昭和电工材料株式会社
主分类号: B29C55/14 分类号: B29C55/14;B32B27/36;G03F7/004
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 感光性 元件 抗蚀剂 图案 形成 方法 印刷 线路板 制造
【权利要求书】:

1.一种感光性元件,其具备:支撑膜;及感光层,形成于该支撑膜的第1面上,其中,

所述支撑膜中的所述第1面的表面电阻率为1×1013~1×1017Ω,与所述第1面相反的一侧的第2面的表面电阻率为1×108~1×1012Ω。

2.根据权利要求1所述的感光性元件,其中,

所述支撑膜在所述第1面侧具有包含润滑剂的第1层,在所述第2面侧具有包含耐电防止剂及润滑剂的第2层。

3.根据权利要求2所述的感光性元件,其中,

所述润滑剂的平均粒径为1μm以下。

4.根据权利要求2或3所述的感光性元件,其中,

所述第1层中所包含的润滑剂的平均粒径小于所述第2层中所包含的润滑剂的平均粒径。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的感光性元件,其中,

所述支撑膜在所述第1层与所述第2层之间还具有基材层,所述基材层为不包含润滑剂及抗静电剂的层。

6.根据权利要求5所述的感光性元件,其中,

所述支撑膜为3层结构的双轴取向聚酯膜。

7.一种抗蚀剂图案的形成方法,其包括:

层叠工序,将权利要求1至6中任一项所述的感光性元件以感光层、支撑膜的顺序层叠于基板上;

曝光工序,通过所述支撑膜向所述感光层的规定部分照射活性光线而形成光固化部;及

显影工序,去除所述感光层中的除所述光固化部以外的区域。

8.一种印刷线路板的制造方法,其包括:

对具有通过权利要求7所述的抗蚀剂图案的形成方法而形成的抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀敷处理来形成导体图案的工序。

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