[发明专利]收集器流动环

权利要求书

1.一种收集器流动环壳体，所述收集器流动环壳体被配置为减轻燃料碎屑在极紫外(EUV)辐射系统中的积聚，所述收集器流动环壳体包括：

多个喷头流动通道出口，被配置为：在所述收集器流动环壳体的等离子体面向的表面的多个部分之上输出多个第一气态流体流动；

檐槽清洗流动通道出口，被配置为：在所述收集器流动环壳体的燃料碎屑接收表面之上输出第二气态流体流动；

护罩安装结构，被配置为支持护罩组装件；

冷却流动通道，被配置为输送流体，所述流体被配置为在所述EUV辐射系统的EUV辐射生成操作期间从所述收集器流动环壳体的至少一部分移除热量；以及

多个光学量测端口，被配置为接纳多个光学量测管。

2.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，其中：

所述多个喷头流动通道出口被配置为：流体地联接到气态流体腔室；

所述檐槽清洗流动通道被配置为：流体地联接到所述气态流体腔室；以及

所述气态流体腔室被配置为：在所述多个第一气态流体流动和所述第二气态流体流动之间产生小于约5％的气态流体流动的总体不均匀性。

3.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，其中所述多个喷头流动通道出口、所述檐槽清洗流动通道出口和所述多个光学量测端口被设置在形成所述收集器流动环壳体的主体的单件材料中。

4.根据权利要求3所述的收集器流动环壳体，还包括减重腔，所述减重腔被形成在所述收集器流动环壳体的所述主体中，并且被配置为：

减小所述收集器流动环壳体的总质量；以及

修改所述收集器流动环壳体的重心。

5.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，还包括多个热量测通道，所述多个热量测通道被配置为支持多个热量测装置。

6.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，还包括多个收集器导轨安装结构，所述多个收集器导轨安装结构被配置为附接到多个收集器导轨。

7.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，其中所述收集器流动环壳体包括铝(Al)。

8.根据权利要求1所述的收集器流动环壳体，还包括选自由以下项构成的组的至少一种材料的涂层：氮化钛(TiN)、锡(Sn)和镍(Ni)。

9.一种极紫外(EUV)辐射源，包括：

激光源，被配置为生成光学脉冲，所述光学脉冲被配置为在照射位置处照射燃料材料，在所述照射位置处被照射的所述燃料材料被配置为生成发射EUV辐射的等离子体；

燃料源，被配置为将所述燃料材料递送到所述照射位置；

收集器流动环壳体，包括：

多个喷头流动通道出口，被配置为：在所述收集器流动环壳体的等离子体面向的表面的多个部分之上输出多个第一气态流体流动，

檐槽清洗流动通道出口，被配置为：在所述收集器流动环壳体的燃料碎屑接收表面之上输出第二气态流体流动，

护罩安装结构，被配置为支撑护罩组装件，以及

冷却流动通道，被配置为输送液体流体，所述液体流体被配置为在所述EUV辐射系统的EUV辐射生成操作期间从所述收集器流动环壳体的至少一部分移除热量。

10.根据权利要求9所述的EUV辐射源，还包括：

多个光学量测端口，被配置为接纳多个光学量测管；以及

控制器，被配置为：

生成第一控制信号，所述第一控制信号被配置为指示所述激光源生成所述光学脉冲，

生成第二控制信号，所述第二控制信号被配置为指示所述燃料源递送所述燃料材料，

生成第三控制信号，所述第三控制信号被配置为指示气态流体源控制所述多个第一气态流体流动从所述多个喷头流动通道出口的输出，其中所述第三控制信号还被配置为指示所述气态流体源控制所述第二气态流体流动从所述檐槽清洗流动通道出口的输出，以及

生成第四控制信号，所述第四控制信号被配置为指示液体流体源控制所述液体流体在所述冷却流动通道中的输送。