[发明专利]气体供给装置和气体供给方法

权利要求书

1.一种气体供给装置，向保存基板的处理容器供给处理气体来进行处理，所述气体供给装置具备：

原料容器，其收容液体或固体的原料；

载气供给部，其用于向所述原料容器内供给载气；

气体供给路，其从所述原料容器向所述处理容器供给包含气化后的所述原料和所述载气的处理气体；

流量计，其设置于所述气体供给路，以测定所述处理气体的流量；以及

在所述气体供给路中设置于所述流量计的下游侧、且为了使与该气体供给路中的所述流量计之间的压力的平均值上升而被缩窄的流路。

2.根据权利要求1所述的气体供给装置，其特征在于，

在所述气体供给路中，在所述被缩窄的流路的下游侧设置有用于进行向处理容器的所述处理气体的供给和切断的阀。

3.根据权利要求2所述的气体供给装置，其特征在于，

在所述气体供给路中，在所述流量计的下游侧设置有用于暂时贮存所述处理气体的气体贮存部，

所述被缩窄的流路设置于所述阀与该气体贮存部之间。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的气体供给装置，其特征在于，

所述被缩窄的流路为节流孔。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的气体供给装置，其特征在于，

所述处理气体为用于对所述基板进行成膜的成膜气体。

6.一种气体供给方法，向保存基板的处理容器供给处理气体来进行处理，所述气体供给方法包括以下工序：

向收容液体或固体的原料的原料容器供给载气；

使包含气化后的所述原料和所述载气的所述处理气体在气体供给路中流通来从所述原料容器向所述处理容器供给；以及

通过设置于所述气体供给路的流量计来测定所述处理气体的流量，

其中，在所述气体供给路中所述流量计的下游侧设置有为了使与该气体供给路中的所述流量计之间的压力的平均值上升而被缩窄的流路。