[发明专利]用于不同基板的共同静电吸盘

权利要求书

1.一种静电吸盘，包括：

第一电极，所述第一电极由具有第一功率的第一电源供能，所述第一功率相对于基板具有第一电压以及正极性或负极性；

第二电极，所述第二电极由具有第二功率的第二电源供能，所述第二功率相对于所述基板具有第二电压以及正极性或负极性；

控制器，所述控制器连接到所述第一电源和所述第二电源，所述控制器被配置为控制以下项中的一者或多者：所述第一功率的所述极性；所述第一电压；所述第二功率的所述极性；或所述第二电压。

2.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一电压和所述第二电压小于或等于大约3kV。

3.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同。

4.如权利要求3所述的静电吸盘，其中所述第一电压和所述第二电压大约相同。

5.如权利要求1所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性不同。

6.如权利要求1所述的静电吸盘，所述静电吸盘进一步包括中心抽头电压反馈，并且所述控制器进一步被配置为相对于所述基板平衡所述第一电压和所述第二电压。

7.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同，并且所述中心抽头电压反馈与所述第一电源与所述第二电源相隔离。

8.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性不同，并且所述中心抽头电压反馈参照所述第一电源和所述第二电源的共同接地。

9.如权利要求6所述的静电吸盘，其中所述中心抽头电压反馈包括RF频率滤波器。

10.如权利要求9所述的静电吸盘，其中所述RF频率滤波器以13.56MHz或60MHz中的一者或多者操作。

11.一种用于吸附基板的方法，所述方法包括：

将基板放置在静电吸盘附近，所述静电吸盘包括：

第一电极，所述第一电极由具有第一功率的第一电源供能，所述第一功率相对于所述基板具有第一电压以及正极性或负极性；

第二电极，所述第二电极由具有第二功率的第二电源供能，所述第二功率相对于所述基板具有第二电压以及与所述第一功率的所述极性相反的正极性或负极性；和

中心抽头电压反馈；以及

启用所述静电吸盘；

使所述基板暴露于等离子体；

测量所述基板和所述静电吸盘之间的偏压以提供CT电压；以及

使所述第一电压和所述第二电压偏移达所述CT电压，以平衡所述第一电极和所述第二电极的吸附力。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述中心抽头电压反馈包括RF频率滤波器。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述RF频率滤波器以13.56MHz或60MHz中的一者或多者操作。

14.如权利要求11所述的方法，其中所述中心抽头电压反馈被间歇地操作。

15.如权利要求11所述的方法，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同，并且所述中心抽头电压反馈与所述第一电源与所述第二电源相隔离。

16.如权利要求11所述的方法，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性相同，并且所述第一电压与所述第二电压大约相同。

17.如权利要求11所述的方法，其中所述第一功率和所述第二功率的所述极性不同，并且所述中心抽头电压反馈参照所述第一电源和所述第二电源的共同接地。