[发明专利]用于确定样品中存在的组分的光谱装置和方法

权利要求书

1.一种根据从样品获得的光谱数据确定样品中存在的组分的方法，所述方法包括：

解析所述光谱数据的多个模型中的每一个，所述多个模型包括具有从预定的组分参考光谱集中选择的不同数量的组分参考光谱的模型；

基于模型选择标准来选择所述多个模型之一，并基于所选择的模型确定所述样品中存在的一个或多个组分，其中，所述模型选择标准包括每个模型的度量，所述度量平衡所述模型对所述光谱数据的拟合质量上的改善与根据所述模型中使用的组分参考光谱的数量确定的复杂性惩罚。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述模型选择标准是贝叶斯信息标准(BIC)。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述模型选择标准包括选择所述多个模型中的具有所述度量的极值的一个模型。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，解析每个模型包括所述组分光谱对所述光谱数据的最小二乘拟合。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述多个模型包括第一模型集和第二模型集，每个第一模型具有从所述预定的组分参考光谱集中选择的第一数量的组分参考光谱，但是该组分参考光谱的组合不同，每个第二模型具有从所述预定的组分参考光谱集中选择的第二数量的组分参考光谱，但是该组分参考光谱的组合不同，所述方法包括根据品质因数确定最佳第一模型和最佳第二模型，并基于所述模型选择标准在所述最佳第一模型与所述最佳第二模型之间进行选择。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，包括：使用当前的组分参考光谱集来解析当前模型，基于所述模型选择标准来确定所述当前模型的当前度量，解析多个另外的模型，其中，每个另外的模型使用另一组分参考光谱集，所述另一组分参考光谱集包括移除了所述组分参考光谱中的不同组分参考光谱或添加了所述预定的组分参考光谱中的不同剩余组分参考光谱的所述当前的组分参考光谱集，基于所述模型选择标准来确定所述另外的模型中的每个模型的另外的度量，将所述另外的度量与所述当前度量进行比较，并且如果最佳另外的模型的所述另外的度量优于所述当前度量，则选择那个最佳另外的模型作为所述(新的)当前模型。

7.根据权利要求6所述的方法，包括：在迭代过程中重复所述步骤，直到没有任何所述另外的度量优于所述当前度量为止。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述迭代过程的第一次迭代的所述当前的组分参考光谱集是使用搜索算法找到的组分参考光谱集。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述搜索算法包括：针对来自预定的组分参考光谱集中的候选组分参考光谱来分别解析所述光谱数据的模型，以及基于品质因数来选择所述候选组分参考光谱中的要包括在所述当前的组分参考光谱集中以进行所述初始迭代的候选组分参考光谱。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，包括：对样品执行光谱分析以获得所述光谱数据。

11.一种处理器，其被布置成执行根据权利要求1至9中任一项所述的方法。

12.一种光谱仪系统，所述光谱仪系统包括用于从样品获得光谱数据的光谱仪以及根据权利要求11所述的处理器。

13.一种具有存储在其上的指令的数据载体，所述指令在被进程执行时使所述处理器执行如权利要求1至9中任一项。