[发明专利]曝光装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，进行基板的扫描曝光，其特征在于，

具有照明光学系统，该照明光学系统利用来自光源的光对原版的被照明面进行照明，

所述照明光学系统具有：

衍射光学元件，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源的光束的光强度分布；

第1遮光部，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及

第2遮光部，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置，

所述衍射光学元件具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部和所述第2遮光部在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

具有变更σ值的变焦透镜单元，

所述衍射光学元件具有如在能够由所述变焦透镜单元变更的σ值的范围的中心值处使所述差消失那样的衍射特性。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

具有调整所述累计入射角度分布的第3遮光部，

所述曝光装置根据所述变焦透镜单元的状态，调整所述第3遮光部。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述第3遮光部配置于从与所述衍射光学元件在光学上处于傅里叶变换的关系的傅里叶变换面的位置向所述光源侧散焦后的位置。

5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1遮光部以及所述第2遮光部分别包括可变狭缝，

所述曝光装置以降低所述差的方式调整所述可变狭缝。

6.根据权利要求3或4所述的曝光装置，其特征在于，

所述第3遮光部包括可变狭缝，

所述曝光装置根据所述变焦透镜单元的状态，调整所述可变狭缝。

7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述衍射光学元件包括计算机全息图。

8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，

具有遮蔽单元，该遮蔽单元配置于所述共轭面，划定所述原版的照明范围。

9.一种物品制造方法，其特征在于，具有：

使用权利要求1至8中的任意一项所述的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及

对进行了所述曝光的基板进行显影的工序，

从进行了所述显影的基板制造物品。