[发明专利]半导体制造装置用构件在审

专利信息
申请号: 202080056190.2 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN114245936A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 田村隆二 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/3065;C23C16/509;C23C16/458;H05B3/74
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;孔博
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 半导体 制造 装置 构件
【权利要求书】:

1.一种半导体制造装置用构件,其是在表面为晶片载置面的陶瓷板的背面设置有中空陶瓷轴的结构,具备:

RF电极,其埋设于所述陶瓷板;

RF连接器,其配置在所述陶瓷轴的中空内部的外侧;以及

RF连杆构件,其设置在所述RF连接器与所述RF电极之间,

所述RF连杆构件具有由多个RF杆构成的分支部,所述分支部延续至所述陶瓷轴的外侧。

2.根据权利要求1所述的半导体制造装置用构件,所述多个RF杆在所述陶瓷板的背面的近前的第一汇集部汇集成1个而与所述RF电极连接。

3.根据权利要求1所述的半导体制造装置用构件,所述多个RF杆分别与所述RF电极连接。

4.根据权利要求3所述的半导体制造装置用构件,所述RF电极在所述陶瓷板的内部涉及高度不同的多个面而设置,

所述多个RF杆分别与所述RF电极的各面连接。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的半导体制造装置用构件,所述多个RF杆在所述RF连接器的近前的第二汇集部汇集成1个而与所述RF连接器连接。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的半导体制造装置用构件,将所述RF杆沿与长度方向垂直的方向切断时的截面为在外周部具有至少1个凹部的形状。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的半导体制造装置用构件,具备:

电阻发热体,其埋设于所述陶瓷板;以及

一对加热杆,其与所述电阻发热体连接,并穿过所述陶瓷轴的中空内部而设置至所述陶瓷轴的外侧为止,

所述RF连杆构件的基端位于比所述加热杆的基端更靠近所述陶瓷轴的位置。

8.根据权利要求1~6中任一项所述的半导体制造装置用构件,具备:

电阻发热体,其埋设于所述陶瓷板,

一对加热杆,其与所述电阻发热体连接,并穿过所述陶瓷轴的中空内部而设置至所述陶瓷轴的外侧为止,

所述RF杆比所述加热杆粗。

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