[发明专利]空间控制等离子体在审
申请号: | 202080048162.6 | 申请日: | 2020-07-03 |
公开(公告)号: | CN114041202A | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 伊夫·洛德韦克·玛丽亚·克瑞顿;安徳里斯·莱夫尔斯 | 申请(专利权)人: | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H1/24 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 尚玲;李维凤 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空间 控制 等离子体 | ||
1.一种等离子体输送设备,包括:
等离子体源,所述等离子体源设置在所述输送设备的外表面中,所述外表面被布置成面向待处理的基板;
传送机构,所述传送机构被配置为相对于彼此传送所述基板和所述外表面;
所述等离子体源包括:气体入口,用于向等离子体生成空间提供气流;
所述等离子体生成空间,所述等离子体生成空间流体耦合到布置在所述外表面中的至少一个等离子体输送口,其中,所述等离子体生成空间由工作电极和对电极的外表面界定;包括介电层的所述工作电极;未被介电材料层覆盖的所述对电极;
至少一个等离子体排气口,所述至少一个等离子体排气口设置在所述外表面中并且远离所述等离子体输送口,以经由所述等离子体排气口排出沿所述外表面流动的等离子体,
其中,所述至少一个等离子体输送口和至少一个等离子体排气口被布置成提供沿相反方向流动的至少两个连续的等离子体流,每个等离子体流由至少两个工作电极中的相应一个工作电极产生;以及开关电路,所述开关电路用于向所述至少两个工作电极可切换地提供电压,以选择性地接通或断开所述等离子体流中的至少一个等离子体流,其中所述开关电路与所述传送机构协同操作。
2.根据权利要求1所述的等离子体输送设备,其中,所述等离子体排气口和等离子体输送口由在工作电极的厚度上隔开的狭缝形成。
3.根据前述权利要求中任一项所述的等离子体输送设备,其中,等离子体排气口形成在多个等离子体输送口的中心。
4.根据权利要求3所述的等离子体输送设备,其中,所述等离子体输送口各自包括被布置在所述等离子体排气口的相对侧上的工作电极。
5.根据权利要求4所述的等离子体输送设备,其中,所述等离子体排气口通过所述排气口的相对侧上的接地电极而与所述工作电极屏蔽。
6.根据前述权利要求中任一项所述的等离子体输送设备,其中,等离子体输送口设置在多个等离子体排气口的中心。
7.根据权利要求6所述的等离子体输送设备,其中,所述等离子体输送口与布置在中心工作电极布置的相对侧上的两个等离子体生成空间流体连接,所述工作电极布置包括至少两个可切换的工作电极,所述至少两个可切换的工作电极各自与所述两个等离子体生成空间中的一个等离子体生成空间相邻。
8.根据前述权利要求中任一项所述的等离子体输送设备,其中,等离子体输送口包括用于提供推送气体的附加气体出口,所述推送气体将所述等离子体流在所述附加气体出口的宽度上推离所述外表面,以在沿着传送方向延伸的所述基板上形成非沉积区域。
9.根据权利要求8所述的等离子体输送设备,其中,所述附加气体出口在横向于所述基板移动的方向上具有一个或多个变型,以在所述基板移动方向上将推送气体供应到所述外表面的线形部分。
10.一种原子层处理设备,包括根据前述权利要求中任一项所述的等离子体输送设备和共反应物质输送系统,所述共反应物质输送系统被布置成以与等离子体输送设备交替的方式将共反应物质流输送到所述基板。
11.根据权利要求10所述的原子层处理设备,其中,所述共反应物质输送包括用于提供推送气体的附加气体出口,所述推送气体在所述附加气体出口的宽度上将所述共反应物质流推离所述外表面,以在沿着传送方向延伸的所述基板上形成非沉积区域。
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