[发明专利]P2X7R拮抗剂

权利要求书

1.一种具有下式I的化合物：

其中：

R₁为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基、芳基、杂芳基、-NR₇R₈、-CO-R₁₀或-NH-CO-R₁₀；

L为键、杂环二价基团、杂芳族二价基团或芳族二价基团；

M为键、烷基、芳基、杂环二价基团、杂芳族二价基团或芳族二价基团；

X为键、-O-、-S-、-SO₂-、-CO-、-NR₉-、-(CH₂)_m-或杂环二价基团，m为1、2、3、4、5或6；

Y为键、-NH-、杂环二价基团、杂芳族二价基团、二价苄基或芳族二价基团；

Z为氢、卤素、烷基、芳基、杂环基、杂芳基、-NR₇R₈、-CO-R₁₀或-NH-CO-R₁₀；

R₇、R₈和R₉独立地为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基或杂芳基；并且

R₁₀为-O-叔丁基、-CH₂CH₂-苯基、氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基或杂芳基；

其异构体，其互变异构体，其药学上可接受的溶剂化物，或其药学上可接受的药物前体。

2.如权利要求1所述的化合物，其中L为并且n为0、1、2、3、4或5。

3.如权利要求1所述的化合物，其中Y为二价苯基、二价萘基、二价喹啉基或二价异喹啉基。

4.如权利要求1所述的化合物，其中式I中的M为键，且所述化合物具有下式II：

其中：

R₁为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基、芳基、杂芳基、-NR₇R₈、-CO-R₁₀或-NH-CO-R₁₀；

R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立地为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基或杂芳基；

L为键、杂环二价基团、杂芳族二价基团或芳族二价基团；

X为键、-O-、-S-、-SO₂-、-CO-、-NR₉-或-(CH₂)_m-，m为1、2、3、4、5或6；

R₇、R₈和R₉独立地为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基或杂芳基；并且

R₁₀为-O-叔丁基、-CH₂CH₂-苯基、氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂环基或杂芳基。

5.如权利要求4所述的化合物，其中L为并且n为0、1、2、3、4或5。

6.如权利要求5所述的化合物，其中R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立地为氢、羟基、卤素、硝基、氨基、烷基、烷氧基、烷氨基、环烷基、环烷氨基、杂芳基、

7.如权利要求6所述的化合物，其中所述化合物选自由以下组成的组：